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专利号: 2018110668120
申请人: 德淮半导体有限公司
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
更新日期:2025-11-14
缴费截止日期: 暂无
联系人

摘要:

权利要求书:

1.一种透明石英玻璃板,用于设置在双紫外光源和晶圆之间,所述透明石英玻璃板包括靠近所述双紫外光源的第一表面,其特征在于,所述第一表面具有若干倾斜面,所述双紫外光源射出的紫外光透过所述倾斜面照射至所述晶圆的表面。

2.如权利要求1所述的透明石英玻璃板,其特征在于,所述倾斜面为金字塔状单体或类金字塔状单体的侧面。

3.如权利要求2所述的透明石英玻璃板,其特征在于,所述金字塔状单体的底面为正四边形,侧面为正三角形。

4.如权利要求2所述的透明石英玻璃板,其特征在于,所述类金字塔状单体的底面为正多边形,侧面为正三角形。

5.如权利要求2所述的透明石英玻璃板,其特征在于,所述金字塔状单体或类金字塔状单体紧密排列。

6.如权利要求2所述的透明石英玻璃板,其特征在于,所述金字塔状单体或类金字塔状单体的高度范围为2μm~10μm,宽度范围为2μm~10μm。

7.一种权利要求1至6任一项所述的透明石英玻璃板的制作方法,其特征在于,包括:采用刻蚀工艺对透明石英玻璃板进行表面处理,形成所述第一表面。

8.如权利要求7所述的透明石英玻璃板的制作方法,其特征在于,所述刻蚀工艺为湿法刻蚀工艺,采用的刻蚀液为加入缓冲剂的HF溶液。

9.如权利要求7所述的透明石英玻璃板的制作方法,其特征在于,所述刻蚀工艺为电感耦合等离子体刻蚀工艺。

10.一种化学气相沉积工艺,其特征在于,包括:

在化学气相沉积工艺的反应室内放置晶圆,所述反应室上方设有双紫外光源;

在所述双紫外光源和晶圆之间设置权利要求1至6任一项所述的透明石英玻璃板;

向所述反应室通入反应气体;

采用所述双紫外光源照射所述晶圆,所述双紫外光源射出的紫外光透过所述透明石英玻璃板照射至所述晶圆的表面。