1.一种硅片单面处理装置，其特征在于包括底座、伺服电机、丝杠、进给螺母、滑座、下模板、上模座、过渡条、滑动吸取机构、进气通道、进气管、托架、直线模组、立板、调速电机、弹性机构、磨头，所述的伺服电机位于底座上端左侧，所述的伺服电机与底座通过螺栓相连，所述的丝杠位于伺服电机右侧且位于底座上端，所述的丝杠与伺服电机键相连且与底座转动相连，所述的丝杠贯穿进给螺母，所述的进给螺母与丝杠螺纹相连，所述的滑座位于进给螺母外侧且位于底座上端，所述的滑座与进给螺母通过螺栓相连且与底座滑动相连，所述的下模板位于滑座上端，所述的下模板与滑座通过螺栓相连，所述的上模座位于下模板上端，所述的上模座与下模板通过螺栓相连，所述的过渡条位于上模座右侧，所述的过渡条与上模座通过螺栓相连，所述的滑动吸取机构贯穿上模座且贯穿下模板，所述的滑动吸取机构可以沿上模座上下滑动，所述的上模座还设有进气通道，所述的进气通道不贯穿上模座主体，所述的进气管位于上模座外侧，所述的进气管与上模座螺纹相连，所述进气管的腔体和进气通道的腔体互通，所述的托架位于底座上端，所述的托架与底座通过螺栓相连，所述的直线模组位于托架上端，所述的直线模组与托架通过螺栓相连，所述的立板位于直线模组下端，所述的立板与直线模组通过螺栓相连，所述的调速电机位于立板下端，所述的调速电机与立板通过螺栓相连，所述的弹性机构位于调速电机下端，所述的弹性机构与调速电机键相连，所述的磨头位于弹性机构下端，所述的磨头与弹性机构螺纹相连。

2.如权利要求1所述的硅片单面处理装置，其特征在于所述的下模板还设有密封套，所述的密封套贯穿下模板且被滑动吸取机构贯穿，所述的密封套与下模板螺纹相连。

3.如权利要求2所述的硅片单面处理装置，其特征在于所述的密封套还包括套筒、密封圈，所述的套筒贯穿下模板，所述的套筒与下模板螺纹相连，所述的密封圈位于套筒内侧。

4.如权利要求1所述的硅片单面处理装置，其特征在于所述的上模座还设有定位槽，所述的定位槽位于上模座顶部，所述的定位槽不贯穿上模座主体。

5.如权利要求1所述的硅片单面处理装置，其特征在于所述的上模座还设有滑动腔，所述滑动腔的腔体与进气通道的腔体互通。

6.如权利要求1所述的硅片单面处理装置，其特征在于所述的滑动吸取机构还包括直管、活塞、第一弹簧、吸取块、橡胶垫、吸气胶管，所述的直管贯穿上模座且贯穿密封套，所述的活塞位于直管外侧，所述的活塞与直管螺纹相连，所述的第一弹簧位于直管外侧且位于活塞上端，所述的吸取块位于直管上端，所述的吸取块与直管螺纹相连，所述的橡胶垫位于吸取块上端，所述的橡胶垫与吸取块粘接相连，所述的吸气胶管位于直管下端，所述的吸气胶管与直管紧配相连。

7.如权利要求6所述的硅片单面处理装置，其特征在于所述的吸取块还设有若干吸孔，所述的吸孔贯穿吸取块主体。

8.如权利要求1所述的硅片单面处理装置，其特征在于所述的弹性机构还包括轴套、导杆、压板、第二弹簧，所述的轴套位于调速电机下端，所述的轴套与调速电机键相连，所述的导杆贯穿轴套，所述的导杆可以沿轴套上下滑动，所述的压板位于导杆下端，所述的压板与导杆螺纹相连，所述的第二弹簧位于导杆外侧且位于轴套和压板之间。