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专利号: 2017113217867
申请人: 浙江海洋大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
更新日期:2025-06-12
缴费截止日期: 暂无
联系人

摘要:

权利要求书:

1.一种超疏水纳米技术修饰的建筑墙面瓦,所述墙面瓦包括碧瓦基板和涂覆在碧瓦基板表面的陶瓷釉,其特征在于,所述陶瓷釉由以下重量份数配比的原料制成:玻璃质熔块70

80份、平均粒度为1 6μm的金属铜微米颗粒7 15份、Fe2O3微米颗粒2 8份、高岭土5 10份;

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所述建筑墙面瓦的制备方法包括以下步骤:(1)将陶瓷釉、陶瓷釉质量分数0.1 0.3%的三聚磷酸钠和陶瓷釉质量分数0.1 0.2%的~ ~羧甲基纤维素混合后进行球磨20 25min形成悬浮液;

~

(2)将悬浮液喷涂在成型的碧瓦基板上形成涂层,在温度为90 92℃的条件下进行干~燥;

(3)将干燥后的碧瓦基板置入熔炉进行快烧,以升温速率为30 35℃/min升高温度至~

1000 1200℃,升至最高温度后,保持温度进行快烧5 8分钟,得到墙面瓦。

~ ~

2.根据权利要求1所述的一种超疏水纳米技术修饰的建筑墙面瓦,其特征在于,所述玻璃质熔块由以下重量份数配比的原料制成:CaO 9 14份、BaO 0 4份、ZnO 8 12份、 PbO 0 2~ ~ ~ ~份、Al2O3 7~9份、B2O3 0.5~3份、SiO2 56~66份、ZrO2 0~1份。

3.根据权利要求1所述的一种超疏水纳米技术修饰的建筑墙面瓦,其特征在于,Fe2O3颗粒的粒径为2 10μm。

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4.根据权利要求1所述的一种超疏水纳米技术修饰的建筑墙面瓦,其特征在于,所述步骤(2)中干燥时间为3 4h。

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5.根据权利要求1所述的一种超疏水纳米技术修饰的建筑墙面瓦,其特征在于,所述涂层的厚度为50 250μm。

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