1.一种用于超疏水的无氟修饰的膜层原位制备技术，其特征在于包括以下步骤：

(1)、制备二氧化钛二维纳米线阵列，采用Ti6Al4V钛合金作为基体材料，分别使用丙酮、酒精及蒸馏水超声清洗吹干；将基体材料置于反应釜内衬中，加入NaOH水溶液，拧紧反应釜后放入事先已加热到220℃的烘箱中保温24h，待反应釜自然冷却至室温后，取出试样并冲洗干净；随后，将试样放入HCl稀溶液中浸泡，取出试样再次洗净吹干；最后，将洗净的试样放入马弗炉中进行退火处理，在500℃下保温3h，随炉冷却至室温，取出试样，制得TiO2纳米线阵列结构；

(2)、配制铜锌锡硫前驱液，称取0.2mM醋酸铜、0.1mM醋酸锌、0.1mM五水四氯化锡及

0.8mM硫脲，加到无水乙醇中超声搅拌得到澄清溶液，后续溶剂热反应备用；

(3)、溶剂热反应，将步骤(1)中的TiO2纳米线阵列结构置于反应釜中并固定在聚四氟乙烯模具上，随即倒入铜锌锡硫前驱液，拧紧反应釜后放入事先已加热到一定温度的烘箱中保温一定的时间，待反应釜自然冷却至室温后，取出试样并冲洗干净，获得生长有CZTS的TiO2纳米线阵列结构，标记为CZTS/TiO2纳米线；

(4)硫化退火处理步骤(3)的CZTS/TiO2纳米线，将生长有CZTS的TiO2纳米线阵列结构转移至刚玉瓷舟中，置于管式炉中恒温区域，并在管式炉进气口处用刚玉瓷舟盛放适量的升华硫粉，以干燥的氮气为载气，在一定温度保持一定时间后停止加热，随炉冷却至室温后取出样品，得到超疏水的CZTS/TiO2膜层。

2.根据权利要求1所述一种用于超疏水的无氟修饰的膜层原位制备技术，其特征在于，所述步骤(3)中的烘箱加热温度为200℃；保温时间为24h。

3.根据权利要求1所述一种用于超疏水的无氟修饰的膜层原位制备技术，其特征在于，所述步骤(4)中升华硫粉用量范围为5mM至50mM。

4.根据权利要求1所述一种用于超疏水的无氟修饰的膜层原位制备技术，其特征在于，所述步骤(4)中的升温速率为10℃/min，加热温度为550℃，保温时间范围为30min至3h。