1.一种便于维护保养的磁控溅射制备ITO薄膜的系统，用于在基片上沉积ITO薄膜，其中，包括：预热腔，其将基片预热至一定温度，所述预热腔的顶面和底面上分别设置有加热器，所述预热腔的两侧壁上设置有第一滚轴；

沉积腔，其连接于所述预热腔，等离子体产生于所述沉积腔内；所述沉积腔的底面内设置有加热板，所述沉积腔的两侧壁上设置有ITO靶材和磁体，所述ITO靶材的溅射面两两相对，所述磁体位于所述ITO靶材的后部，且所述两侧壁上的磁体的磁力相反，以在所述两侧壁间形成磁场；所述沉积腔的上部开口，所述开口上设置有顶盖，以将所述沉积腔的开口闭合，所述顶盖的下方活动连接有具有夹层的中空的输气板，所述输气板的下表面均匀开设有多个通孔，以使反应气体由所述夹层通入沉积腔，所述输气板的四壁和中心位置均设置有多个进气口，所述进气口与外部反应气体装置相连；所述沉积腔的两侧壁上设置有第二滚轴，所述第二滚轴位于所述ITO靶材的下方，并与所述第一滚轴的高度齐平，且所述第二滚轴为可伸缩设置；所述沉积腔的下表面上均匀设置有若干支柱，所述支柱可上下运动；

冷却腔，其连接于所述沉积腔，所述冷却腔的两侧壁上设置有第三滚轴，所述第三滚轴的高度与所述第一滚轴和第二滚轴齐平；

成品腔，其连接于所述冷却腔，所述成品腔内设置有多个格栅，以将所述成品腔均匀分隔为多个隔室；

真空泵，其与所述预热腔、沉积腔和冷却腔分别连接，以控制所述各个腔室的真空度；

控制面板，其与所述预热腔、沉积腔、冷却腔和真空泵分别连接，以对各个腔室内的部件和真空泵进行控制。

2.如权利要求1所述的便于维护保养的磁控溅射制备ITO薄膜的系统，其中，还包括：

温度传感器，其受控于所述控制面板，并分别设置于所述预热腔、沉积腔和冷却腔的侧壁上。

3.如权利要求1所述的便于维护保养的磁控溅射制备ITO薄膜的系统，其中，所述ITO靶材的后部连接有冷却器。

4.如权利要求1所述的便于维护保养的磁控溅射制备ITO薄膜的系统，其中，所述进气口的前端设置有挡板，以在所述进气口前形成一个储气腔室，所述挡板的中部开口，以将所述储气腔室内的反应气体通入所述输气板。

5.如权利要求1所述的便于维护保养的磁控溅射制备ITO薄膜的系统，其中，所述成品腔的底部设置有伸缩台，所述伸缩台在完全伸展时使所述成品腔的最下端的隔室与所述冷却腔的出口平齐，所述伸缩台在完全收缩时使所述成品腔的最上端的隔室与所述冷却腔的出口平齐。

6.如权利要求5所述的便于维护保养的磁控溅射制备ITO薄膜的系统，其中，所述伸缩台上设置有重力传感器，所述重力传感器与所述控制面板通讯连接，所述重力传感器在感测到所述成品腔的重量加大时，向所述控制面板发送信号，所述控制面板控制所述伸缩台向上伸展1个隔室的高度。

7.如权利要求6所述的便于维护保养的磁控溅射制备ITO薄膜的系统，其中，所述伸缩台上设置有与所述控制面板通讯连接的提示装置，所述提示装置在所述伸缩台完全伸展后向所述控制面板发出提示。