1.一种耐候性高效太阳能选择性吸收涂层，其特征在于，该涂层体系具有四层结构：由内到外依次为TiCrMoN/CrMoON/CrON/SiON，其中，红外反射层TiCrMoN涂层成分如下：Ti: 

28 32 at.%，Cr: 18 24 at.%，Mo: 4 10 at.%，N: 43 47 at.%；吸收层CrMoON成分如下：~ ~ ~ ~

Cr: 35 43 at.%，Mo: 9 16 at.%，O: 6 12 at.%，N: 35 40 at.%；减反层CrON成分如下：~ ~ ~ ~

Cr: 42 52 at.%，O: 7 12 at.%，N: 39 48 at.%；减反层SiON成分如下：Si: 36 42 at.%，~ ~ ~ ~O: 12 20 at.%，N: 40 49 at.%。

~ ~

2.根据权利要求1所述的耐候性高效太阳能选择性吸收涂层，其特征在于，TiCrMoN红外反射层的厚度为30 100 nm，CrMoON吸收层的厚度为40 120 nm，CrON减反层的厚度为10~ ~ ~

30 nm，SiON减反层的厚度为15 30 nm。

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3.权利要求1或2所述的耐候性高效太阳能选择性吸收涂层的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：S1. 控制基体负偏电压至80-150 V，关闭Ar气，打开N2气，调节气压在0.7 1.5 Pa，开启~纯TiCr阴极电弧合金靶以及中频磁控溅射Mo金属靶，调节TiCr合金靶材电流为60 120 A，~中频磁控溅射Mo金属靶5 15 A，沉积TiCrMoN红外反射层；

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S2. 保持通入N2气，同时打开O2气，调节气压至0.5~1.5 Pa，O2含量在5%~28%，温度调节至200 400℃条件下，开启Cr阴极电弧靶和Mo中频磁控溅射靶，保持Cr靶电流在45 65 A，Mo~ ~靶电流在6 10 A，沉积CrMoON吸收层；

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S3. 关闭Mo中频磁控溅射靶，保持通入O2和N2气，并控制气压在0.7-1.3 Pa，O2比例在

5% 16%，调节Cr靶电流在40 80 A，沉积CrON减反层；

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S4. 关闭Cr阴极电弧靶，保持通入O2和N2气，并控制气压在0.6 1.5 Pa，O2比例在5%~ ~

20%，开启Si中频磁控溅射靶，调节靶电流在5 12A，沉积SiON减反层，即得所述选择性吸收~涂层。

4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，在步骤S1之前通Ar气，对基体进行辉光清洗，具体为：将基体在转速3 8 rpm的条件升温至300 500℃，抽本底真空达到1.0 5.0~ ~ ~×10-3 Pa；通Ar气，调节真空度至0.1 0.8 Pa，加负偏电压-700 -1500 V，进行辉光溅射清~ ~洗10 40 min。

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5.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，步骤S1沉积TiCrMoN红外反射层的时间为2 10 min，步骤S2沉积CrMoON吸收层的时间为2 12 min，步骤S3沉积CrON减反层的时~ ~间为2 10min，步骤S4沉积SiON减反层的时间为3 20min。

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