1.一种耐候性高效太阳能选择性吸收涂层，其特征在于，该涂层体系具有四层结构：

由内到外依次为TiCrMoN/CrMoON/CrON/SiON，其中，红外反射层TiCrMoN涂层成分如下：Ti: 28~32 at.%，Cr: 18~24 at.%，Mo: 4~10 at.%，N: 43~47 at.%；吸收层CrMoON成分如下：Cr: 35~43 at.%，Mo: 9~16 at.%，O: 6~12 at.%，N: 35~40 at.%；减反层CrON成分如下：Cr: 42~52 at.%，O: 7~12 at.%，N: 39~48 at.%；减反层SiON成分如下：Si: 36~42 at.%，O: 12~20 at.%，N: 40~49 at.%。

2.根据权利要求1所述的耐候性高效太阳能选择性吸收涂层，其特征在于，TiCrMoN红外反射层的厚度为30~100 nm，CrMoON吸收层的厚度为40~120 nm，CrON减反层的厚度为

10~30 nm，SiON减反层的厚度为15~30 nm。

3.权利要求1或2所述的耐候性高效太阳能选择性吸收涂层的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：S1. 控制基体负偏电压至80-150 V，关闭Ar气，打开N2气，调节气压在0.7~1.5 Pa，开启纯TiCr阴极电弧合金靶以及中频磁控溅射Mo金属靶，调节TiCr合金靶材电流为60~120 A，中频磁控溅射Mo金属靶5~15 A，沉积TiCrMoN红外反射层；

S2. 保持通入N2气，同时打开O2气，调节气压至0.5~1.5 Pa，O2含量在5%~28%，温度调节至200~400℃条件下，开启Cr阴极电弧靶和Mo中频磁控溅射靶，保持Cr靶电流在45~65 A，Mo靶电流在6~10 A，沉积CrMoON吸收层；

S3. 关闭Mo中频磁控溅射靶，保持通入O2和N2气，并控制气压在0.7-1.3 Pa，O2比例在5%~16%，调节Cr靶电流在40~80 A，沉积CrON减反层；

S4. 关闭Cr阴极电弧靶，保持通入O2和N2气，并控制气压在0.6~1.5 Pa，O2比例在

5%~20%，开启Si中频磁控溅射靶，调节靶电流在5~12A，沉积SiON减反层，即得所述选择性吸收涂层。

4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，在步骤S1之前通Ar气，对基体进行辉光清洗，具体为：将基体在转速3~8 rpm的条件升温至300~500℃，抽本底真空达到-3

1.0~5.0×10 Pa；通Ar气，调节真空度至0.1~0.8 Pa，加负偏电压-700~-1500 V，进行辉光溅射清洗10~40 min。

5.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，步骤S1沉积TiCrMoN红外反射层的时间为2~10 min，步骤S2沉积CrMoON吸收层的时间为2~12 min，步骤S3沉积CrON减反层的时间为2~10min，步骤S4沉积SiON减反层的时间为3~20min。