1.溶菌酶二维纳米薄膜作为光刻胶的应用，具体方法为：在制备溶菌酶二维纳米薄膜的过程中直接将待加工的基片与溶液表面接触，使溶菌酶相转变生成的纳米颗粒通过表界面诱导直接在液固表面自组装形成二维纳米薄膜，原位生长于待加工的基片表面，或者将制备好的溶菌酶二维纳米薄膜直接粘附于待加工的基片表面；然后采用紫外或电子束方式曝光，用超纯水显影，将所需要的微纳米图形从掩膜版转移至待加工的基片上，再用HF蒸汽或N-溴代丁二酰亚胺/吡啶或过硫酸铵或FeCl3进行刻蚀，最后用盐酸胍水溶液或醋酸水溶液或乙二酸水溶液去胶。