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专利号: 2015104972350
申请人: 浙江工业大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
更新日期:2024-12-10
缴费截止日期: 暂无
联系人

摘要:

权利要求书:

1.一种可测量表面应变横向偏导的横向偏差全桥全叉指型金属应变片,包括基底,其特征在于:所述金属应变片还包括四个敏感栅,每个敏感栅的两端分别连接一根引出线,所述基底上固定所述四个敏感栅;

每一敏感栅包括敏感段和过渡段,所述敏感段的两端为过渡段,所述敏感段呈细长条形,所述过渡段呈粗短形,所述敏感段的电阻远大于所述过渡段的电阻,相同应变状态下所述敏感段的电阻变化值远大于所述过渡段的电阻变化值,所述过渡段的电阻变化值接近于

0;

每个敏感段的所有横截面形心构成敏感段轴线,该敏感段轴线为一条直线段,各敏感段的轴线平行并且位于同一平面中,敏感段轴线所确定平面内,沿所述敏感段轴线方向即轴向,与轴向垂直的方向为横向;每个敏感段的所有横截面形状尺寸一致;取每个敏感段的轴线中点位置并以该敏感段电阻值为名义质量构成所在敏感段的名义质点,各个敏感段的名义质点共同形成的质心位置为敏感栅的中心;

四个敏感栅的敏感段总电阻一致,所述四个敏感栅在相同的应变下敏感段的总电阻变化值一致,四个敏感栅之中心位于一条直线上,该一条直线垂直于四个敏感栅任何一条敏感段轴线,四个敏感栅沿此直线方向从上至下分别称为上敏感栅,中上敏感栅,中下敏感栅和下敏感栅;各敏感段轴线所确定平面上,任意两个敏感栅之间均呈叉指布置;

四个敏感栅中心在轴向上无偏差,在横向上有偏差,上敏感栅中心与中上敏感栅中心的距离为Δy1;中上敏感栅中心与中下敏感栅中心的距离为Δy2,中下敏感栅中心与下敏感栅中心距离为Δy3,上敏感栅中心与中下敏感栅中心的距离为Δy4=Δy1+Δy2,中上敏感栅中心与下敏感栅中心距离为Δy5=Δy2+Δy3,上敏感栅中心与下敏感栅中心距离为Δy6=Δy1+Δy2+Δy3。

2.如权利要求1所述的可测量表面应变横向偏导的横向偏差全桥全叉指型金属应变片,其特征在于:所述金属应变片还包括盖片,所述盖片覆盖于所述敏感栅和基底上。

3.如权利要求1或2所述的可测量表面应变横向偏导的横向偏差全桥全叉指型金属应变片,其特征在于:所述敏感栅为丝式、箔式、薄膜式或厚膜式敏感栅。

4.如权利要求1或2所述的可测量表面应变横向偏导的横向偏差全桥全叉指型金属应变片,其特征在于:所述基底为胶膜基底、玻璃纤维基底、石棉基底、金属基底或临时基底。

5.如权利要求1或2所述的可测量表面应变横向偏导的横向偏差全桥全叉指型金属应变片,其特征在于:所述四个敏感栅从上至下布置在基底上。