1.一种同轴调节方法，需要调节同轴度二个旋转体包括第一旋转体和第二旋转体，其特征在于，所述同轴调节方法包括如下步骤：步骤S1，在所述第一旋转体上固定一伸向所述第二旋转体的调整块，使得所述调整块在所述第一旋转体带动下做画圈式旋转；

步骤S2，在所述第二旋转体面向所述第一旋转体的表面上吸附一个圆柱形磁铁，且所述磁铁位于所述调整块画圈旋转时形成的圆柱形空间内；

步骤S3，旋转所述第一旋转体，获得所述磁铁与所述调整块距离的变化情况；

步骤S4，停止旋转所述第一旋转体，根据所述磁铁与所述调整块距离的变化情况，调节所述调整块在所述第一旋转体上的位置，使得所述调整块旋转时画圈的内径刚好与所述磁铁的外径相同；

步骤S5，旋转所述第二旋转体，获得所述磁铁与所述调整块距离的变化情况；

步骤S6，停止旋转所述第二旋转体，根据所述磁铁与所述调整块距离的变化情况，调整所述第一旋转体以及所述磁铁的位置，使得所述第二旋转体带动所述磁铁旋转时，所述磁铁的外壁一直挨着所述调整块的内壁旋转。

2.根据权利要求1所述的同轴调节方法，其特征在于，当所述第二旋转体与所述磁铁不能产生吸附力时，先在所述第二旋转体上设置一能与所述磁铁产生吸附力的磁性体，然后放置所述磁铁。

3.根据权利要求1所述的同轴调节方法，其特征在于，所述步骤4是通过多次旋转所述第一旋转体，并对所述调整块的位置调整多次来达到。

4.根据权利要求1所述的同轴调节方法，其特征在于，所述步骤6是通过多次旋转所述第二旋转体和多次调整所述第一旋转体以及所述磁铁的位置来达到。

5.根据权利要求1所述的同轴调节方法，其特征在于，所述步骤6改为：停止旋转所述第二旋转体，根据所述磁铁与所述调整块距离的变化情况，调整所述第二旋转体以及所述磁铁的位置，使得所述第二旋转体带动所述磁铁旋转时，所述磁铁的外壁一直挨着所述调整块的内壁旋转。

6.根据权利要求5所述的同轴调节方法，其特征在于，所述步骤6是通过多次旋转所述第二旋转体和多次调整所述第二旋转体以及所述磁铁的位置来达到。