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专利号: 2025214950268
申请人: 玛奇纳米科技(苏州)有限公司
专利类型:实用新型
专利状态:已下证
更新日期:2026-09-30
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种可均匀镀膜的真空离子镀膜装置,其特征在于:包括真空离子镀膜箱(1)以及设置在真空离子镀膜箱(1)上表面的真空泵(2),所述真空离子镀膜箱(1)一侧面外部安装有连接板(11),所述连接板(11)的外部对称设置有电动推杆(13),所述真空离子镀膜箱(1)的一侧面设置有箱门(3),所述箱门(3)的一侧面在真空离子镀膜箱(1)的内部连接有移动板(31),所述移动板(31)的上表面安装有电机(5),所述电机(5)的驱动端连接有转轴,所述转轴的上端连接有转盘(4),所述转盘(4)的上表面中间位置处设置有第二安装杆(421),所述第二安装杆(421)的外部安装有放置盘(42),所述转盘(4)的上表面还对称设置有第一安装杆(41),所述第一安装杆(41)的外部对称设置有悬挂钩(411)。

2.根据权利要求1所述的一种可均匀镀膜的真空离子镀膜装置,其特征在于:所述移动板(31)的下表面对称设置有“T”型的安装块,所述真空离子镀膜箱(1)的内部开设有与安装块相互滑动的安装槽(12)。

3.根据权利要求1所述的一种可均匀镀膜的真空离子镀膜装置,其特征在于:所述箱门(3)的外部对称开设有限位孔(32),所述电动推杆(13)的固定端安装在连接板(11)的外部,且电动推杆(13)的伸缩端嵌入限位孔(32)的内部。

4.根据权利要求1所述的一种可均匀镀膜的真空离子镀膜装置,其特征在于:所述悬挂钩(411)在第一安装杆(41)的外侧至少对称设置有三组,所述放置盘(42)在第二安装杆(421)的外部对称设置有三个。

5.根据权利要求1所述的一种可均匀镀膜的真空离子镀膜装置,其特征在于:所述转盘(4)的上表面对称开设有第一安装孔,所述第一安装杆(41)的下端嵌入第一安装孔内部与第一安装孔螺纹连接。

6.根据权利要求1所述的一种可均匀镀膜的真空离子镀膜装置,其特征在于:所述转盘(4)的上表面中间位置处还设置有第二安装孔,所述第二安装杆(421)的下端嵌入第二安装孔内部与第二安装孔螺纹连接。