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专利号: 2025205420440
申请人: 韩明琦
专利类型:实用新型
专利状态:已下证
更新日期:2026-05-14
缴费截止日期: 暂无
联系人

摘要:

权利要求书:

1.一种石墨烯纳米复合薄膜沉积装置,包括圆柱形体(1)、多通道气体分配器(2)、可旋转基材托盘(3)、气溶胶喷射模块(4)及磁控溅射组件(5),其特征在于:所述圆柱形体(1)的内部为真空腔体,并在圆柱形体(1)的顶端和低端分别设置安装有法兰盘(6),所述多通道气体分配器(2)通过法兰盘(6)固定安装在圆柱形体(1)的顶端,所述圆柱形体(1)的底端通过法兰盘(6)固定安装有真空泵(7),所述圆柱形体(1)的内部真空腔体中间处固定安装有隔板(8),所述隔板(8)上设置有可旋转基材托盘(3),所述气溶胶喷射模块(4)连接于多通道气体分配器(2),并设置在圆柱形体(1)的内部顶面上,所述磁控溅射组件(5)安装设置在圆柱形体(1)的内部侧壁上。

2.根据权利要求1所述的一种石墨烯纳米复合薄膜沉积装置,其特征在于:所述可旋转基材托盘(3)与电机(9)的传动轴传动连接,所述电机(9)固定安装隔板(8)的底面上,所述可旋转基材托盘(3)的表面设置有硅胶吸附层(10)。

3.根据权利要求1所述的一种石墨烯纳米复合薄膜沉积装置,其特征在于:所述气溶胶喷射模块(4)的底面上设置有微孔喷嘴(11),所述微孔喷嘴(11)设置有多个,且呈环形分布,孔径范围为0.1‑0.5mm。

4.根据权利要求1所述的一种石墨烯纳米复合薄膜沉积装置,其特征在于:所述多通道气体分配器(2)上设置有两组输入口(12),其中一组输入口用于连接气溶胶喷射模块(4)上的微孔喷嘴(11),另一组则传输至输出口(13)处通过管路(14)连接磁控溅射组件(5)。

5.根据权利要求1所述的一种石墨烯纳米复合薄膜沉积装置,其特征在于:所述磁控溅射组件(5)通过螺栓(15)固定安装在真空腔体的侧壁上。

6.根据权利要求1所述的一种石墨烯纳米复合薄膜沉积装置,其特征在于:所述圆柱形体(1)的侧部开设有真空口(16),所述真空口(16)通过气管(17)与真空泵(7)连接。

7.根据权利要求1所述的一种石墨烯纳米复合薄膜沉积装置,其特征在于:所述圆柱形体(1)为不锈钢材质,且圆柱形体(1)内部的真空腔体侧壁进行抛光处理。

8.根据权利要求1所述的一种石墨烯纳米复合薄膜沉积装置,其特征在于:所述圆柱形体(1)的外侧壁上固定设置有触摸屏操作面板(18),并在圆柱形体(1)的底部设置有支撑腿(19)。