1.一种自模板异相界面原位氧化还原反应制备Bi2O2CO3纳米片的方法，其特征在于，将NaBiO3·2H2O和C3N3(NH2)3加入到含蒸馏水的水热反应釜中，搅拌均匀，得固液混合物；所述固液混合物在水热条件下，通过自模板的异相界面原位氧化还原反应，制备出Bi2O2CO3纳米片；上述反应中，以NaBiO3·2H2O为铋源，同时，所述NaBiO3·2H2O也作为氧化剂和固体模板剂，反应过程如下：

2.根据权利要求1所述的自模板异相界面原位氧化还原反应制备Bi2O2CO3纳米片的方法，其特征在于，所述NaBiO3·2H2O和C3N3(NH2)3的摩尔比为1：1。

3.根据权利要求1所述的自模板异相界面原位氧化还原反应制备Bi2O2CO3纳米片的方法，其特征在于，所述固液混合物在180～200℃的水热条件下反应10～30h。

4.根据权利要求1所述的自模板异相界面原位氧化还原反应制备Bi2O2CO3纳米片的方法，其特征在于，水热反应后，反应产物经离心分离、蒸馏水洗涤和真空干燥后，得目标所述的Bi2O2CO3纳米片。

5.根据权利要求4所述的自模板异相界面原位氧化还原反应制备Bi2O2CO3纳米片的方法，其特征在于，所述真空干燥条件为：60℃、0.1Mpa真空度下，真空干燥2h。

6.根据权利要求1～5任一所述的自模板异相界面原位氧化还原反应制备Bi2O2CO3纳米片的方法，其特征在于，所述Bi2O2CO3纳米片的厚度为10～15nm。

7.根据权利要求1～5任一所述的自模板异相界面原位氧化还原反应制备Bi2O2CO3纳米片的方法，其特征在于，所述Bi2O2CO3纳米片中，Bi2O2CO3的平均晶粒尺寸为73.1～93.7nm。