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专利号: 2024205595046
申请人: 苏州中芯微纳传感科技有限公司
专利类型:实用新型
专利状态:已下证
更新日期:2026-07-29
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种MEMS气敏传感器基底层结构,其特征在于:包括硅基底层(1),所述硅基底层(1)上方依次层叠有第一绝缘材料层(4)、第二绝缘材料层(5)和微加热层(6),所述微加热层(6)的上表面设置有保护材料层(7),所述保护材料层(7)上表面的两端均设置有微电极(3),两个微电极(3)之间电性连接有气敏材料层(2)。

2.根据权利要求1所述的MEMS气敏传感器基底层结构,其特征在于:所述硅基底层(1)的底部中段设置有通槽(10),所述通槽(10)贯穿硅基底层(1)。

3.根据权利要求2所述的MEMS气敏传感器基底层结构,其特征在于:所述通槽(10)呈梯形状,且其上端的宽度小。

4.根据权利要求1所述的MEMS气敏传感器基底层结构,其特征在于:所述硅基底层(1)底部的两端均设置有第三绝缘材料层(8)。

5.根据权利要求1所述的MEMS气敏传感器基底层结构,其特征在于:所述微加热层(6)的内部固定镶嵌有微加热器(9),所述微加热器(9)设置为多个,多个微加热器(9)等距离分布。