1.一种自洁式化工反应釜，包括反应釜(1)，所述反应釜(1)外表面设置有冷凝管(2)，所述反应釜(1)底端设置有底座(3)，所述反应釜(1)底端中部安装有冷凝水口(4)，所述反应釜(1)外表面顶部安装有耳座(5)，所述反应釜(1)顶端相接有封盖(6)，所述封盖(6)上设置有进料口(7)，且进料口(7)端口连接有水阀(8)，同时冷凝管(2)尾端连接在水阀(8)上，所述封盖(6)上安装有温度计口(9)；

其特征在于：还包括清洁装置(10)，所述清洁装置(10)贯穿垂直安装在反应釜(1)中部，用来对反应釜内壁残留的反应残渣进行清洗，所述清洁装置(10)包括主轴(100)、电机(101)、转盘(102)、滑槽(103)、滑块(104)、连接块(105)、喷座(106)、喷头(107)、连接装置(108)、转轴(109)和搅拌器(1010)，所述主轴(100)设置在封盖(6)上中部，所述电机(101)安装在主轴(100)顶端，且电机(101)输出轴贯穿主轴(100)、封盖(6)与转盘(102)相接，所述转盘(102)安装在主轴(100)底端，所述转盘(102)上开设了滑槽(103)，所述滑块(104)连接在滑槽(103)上，且连接块(105)内侧与滑块(104)相接、底端与喷座(106)相接，所述喷座(106)连接在转盘(102)底端，所述喷头(107)安装在喷座(106)底部尾端处，所述连接装置(108)安装在转盘(102)底端中部，且转轴(109)顶端与连接装置(108)中部相接，所述搅拌器(1010)设置于转轴(109)外表面上，所述主轴(100)底端连接在封盖(6)上，所述转轴(109)底端连接在反应釜(1)内底端。

2.根据权利要求1所述一种自洁式化工反应釜，其特征在于：所述连接装置(108)包括套杆(1080)、卡块(1081)、卡盘(1082)、套筒(1083)和旋钮(1084)，所述套杆(1080)连接在转盘(102)底端，所述卡块(1081)套接在转轴(109)外表面上，所述卡盘(1082)安装在卡块(1081)顶端上，所述套筒(1083)连接在套杆(1080)底端，所述旋钮(1084)设置在套筒(1083)上，所述套杆(1080)顶端与转盘(102)底部相接，且卡块(1081)、卡盘(1082)、套筒(1083)都套接在转轴(109)外表面上。

3.根据权利要求1所述一种自洁式化工反应釜，其特征在于：所述转盘(102)上添加有一层橡胶层，且侧壁上开设的滑槽(103)尺寸最大不超过转盘(102)高度。

4.根据权利要求1所述一种自洁式化工反应釜，其特征在于：所述搅拌器(1010)之间存在铰接关系，搅拌器(1010)能在转动过程中进行上下的摆动。

5.根据权利要求1所述一种自洁式化工反应釜，其特征在于：所述喷座(106)沿转盘(102)圆周等距分布有四根，呈弧块状，能带动喷头(107)对反应釜(1)内壁进行全方位喷洒。

6.根据权利要求2所述一种自洁式化工反应釜，其特征在于：所述卡块(1081)能沿着套杆(1080)内上下移动直至卡接在套杆(1080)内底端，对转轴(109)伸缩长度进行限位。