1.一种晶硅绒面制备装置，其特征在于，包括制绒箱(1)、晶硅板(4)，所述晶硅板(4)位于所述制绒箱(1)内，所述制绒箱(1)顶部开口，所述制绒箱(1)内底面安装有导流板(5)，所述晶硅板(4)位于所述导流板(5)上方，所述晶硅板(4)下端面设有绒面(41)，所述绒面(41)为加工面，所述绒面(41)贴近所述导流板(5)上端面，且所述晶硅板(4)下端面与所述导流板(5)上端面之间形成有供制绒剂流动的流通通道(9)，所述制绒箱(1)包括位于所述导流板(5)两侧的壁体一(11)、壁体二(12)，所述流通通道(9)内的制绒剂从所述晶硅板(4)靠近所述壁体一(11)一侧流向所述晶硅板(4)靠近所述壁体二(12)一侧，所述导流板(5)上端面设有凸起二(51)，所述凸起二(51)沿Y方向间隔分布且沿X方向多层设置，相邻两层所述凸起二(51)之间沿Y方向错开分布；

所述凸起二(51)设有斜边部(511)，所述斜边部(511)沿所述流通通道(9)内的制绒剂流动方向逐渐向靠近所述晶硅板(4)下端面方向倾斜；

所述斜边部(511)设有凹体(512)，所述凹体(512)轴向沿所述斜边部(511)倾斜方向设置；

还包括夹具体(3)，所述夹具体(3)包括位于底部的延板二(32)，所述延板二(32)底部设有槽体一(321)，所述晶硅板(4)位于所述槽体一(321)内，所述延板二(32)安装有弹力组件(7)，所述弹力组件(7)位于所述晶硅板(4)左右两侧，所述弹力组件(7)包括顶块(73)，位于所述晶硅板(4)左右两侧的所述顶块(73)分别抵接所述晶硅板(4)左右两端以形成夹持；

制绒剂流经所述绒面(41)以使所述绒面(41)成型有凸起一(411)，所述凸起一(411)被制绒剂侵蚀大的区域为R1,所述凸起一(411)被制绒剂侵蚀小的区域为R2，R1区域的所述凸起一(411)外周位置成型R2区域的所述凸起一(411)。

2.根据权利要求1所述的一种晶硅绒面制备装置，其特征在于，所述壁体一(11)设有流道一(111)，所述流道一(111)为进液口，所述壁体二(12)设有流道二(121)，所述流道二(121)为出液口，所述流道二(121)与所述导流板(5)上端面的右端连通。

3.根据权利要求1所述的一种晶硅绒面制备装置，其特征在于，所述延板二(32)设有沉孔一(322)，所述沉孔一(322)位于所述槽体一(321)左右两侧，所述顶块(73)插入所述沉孔一(322)且能够沿所述沉孔一(322)内壁左右移动，所述顶块(73)远离所述晶硅板(4)一侧抵接有弹簧二(72)，所述弹簧二(72)远离所述顶块(73)一端抵接所述沉孔一(322)内壁，所述沉孔一(322)靠近所述晶硅板(4)一侧为开口处，所述顶块(73)能够至少部分伸出所述沉孔一(322)的开口处。

4.根据权利要求1所述的一种晶硅绒面制备装置，其特征在于，所述制绒箱(1)还包括相对设置的壁体三(14)，所述延板二(32)沿两所述壁体三(14)连线方向长度与两所述壁体三(14)之间的间距相配。

5.根据权利要求1所述的一种晶硅绒面制备装置，其特征在于，所述夹具体(3)还包括位于顶部的延板一(31)，所述延板一(31)能够挂在所述壁体一(11)上端与壁体二(12)上端，所述延板二(32)伸入所述制绒箱(1)。

6.一种晶硅绒面制备方法，使用权利要求1‑5任意一项所述的一种晶硅绒面制备装置对所述晶硅板(4)进行绒面制备，其特征在于，包括如下步骤：①所述晶硅板(4)向下伸入所述制绒箱(1)内，所述晶硅板(4)的待成型的所述绒面(41)朝下并贴近所述导流板(5)上端面；

②制绒剂沿所述流通通道(9)从左到右流动，在流动过程中对所述晶硅板(4)下端面形成侵蚀作用，使得晶硅板(4)下端面形成所述绒面(41)；

制绒剂流经所述绒面(41)以使所述绒面(41)成型有凸起一(411)，所述凸起一(411)被制绒剂侵蚀大的区域为R1,所述凸起一(411)被制绒剂侵蚀小的区域为R2，R1分布于R2外周。