1.一种自清洁型日间辐射降温涂层的制备方法，其特征在于，包括：（1）向无机粒子的分散液中加入改性剂，对无机粒子进行改性，经分离、洗涤、干燥后，得到改性无机粒子；所述的无机粒子为硫酸钡；无机粒子的平均粒径为500 5000 nm；

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（2）将改性无机粒子加入至有机聚合物的分散液中，搅拌均匀后得到涂料；

所述的有机聚合物为有机硅改性聚氨酯聚合物和含氟丙烯酸酯共聚物；有机硅改性聚氨酯聚合物的制备方法包括：将异佛尔酮二异氰酸酯、聚碳酸酯二元醇、端羟基硅油加入有机溶剂中，再加入催化剂，在惰性气体保护下于80 90 ℃搅拌反应1 5 h；之后再加入1,4‑~ ~丁二醇扩链反应1 2h；之后再加入乙二醇进行后扩链；待将异佛尔酮二异氰酸酯反应完全~后得到有机硅改性聚氨酯聚合物；含氟丙烯酸酯共聚物的制备方法包括：将丙烯酸十三氟辛酯、丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸甲酯和引发剂混合均匀，和乳化剂加入水混合、均质，均质后在冰水浴下粉碎得到乳液；将部分乳液在惰性气氛中，60 80 ℃搅拌反应，当乳液冒蓝光~时，滴加剩余的乳液，加完后保温2 5 h，得到含氟丙烯酸酯乳液；干燥后得到含氟丙烯酸酯~共聚物；

（3）将涂料涂覆到基材表面，静置、干燥，得到自清洁型日间辐射降温涂层；所述的自清洁型日间辐射降温涂层中，改性无机粒子的质量分数为80 90%。

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2.根据权利要求1所述的自清洁型日间辐射降温涂层的制备方法，其特征在于，所述的改性剂为γ‑甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、软脂酸、硬脂酸、十二烷基磺酸钠中的一种或多种。

3.根据权利要求1所述的自清洁型日间辐射降温涂层的制备方法，其特征在于，步骤（2）中，有机聚合物的分散液是由有机聚合物分散于有机溶剂中得到；所述的有机溶剂为四氢呋喃、丙酮、丙二醇甲醚醋酸酯、乙酸乙酯、二甲基甲酰胺中的一种或多种。

4.根据权利要求3所述的自清洁型日间辐射降温涂层的制备方法，其特征在于，所述的有机聚合物的分散液中，有机聚合物和有机溶剂的质量比为1:8 13。

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5.根据权利要求1所述的自清洁型日间辐射降温涂层的制备方法，其特征在于，所述的自清洁型日间辐射降温涂层的厚度为100 500 μm。

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6.根据权利要求5所述的自清洁型日间辐射降温涂层的制备方法，其特征在于，所述的自清洁型日间辐射降温涂层的厚度为150 200 μm。

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7.一种采用如权利要求1 6任一项所述的制备方法制备得到的自清洁型日间辐射降温~涂层。