1.一种彩色日间被动辐射冷却双层膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)将无机纳米粒子分散于乙醇中，配置成无机纳米粒子分散液；所述的无机纳米粒子包括球形纳米二氧化硅、氮化硅、磷酸铝、二氧化钛、氧化铝、三氧化二铝中的一种或多种；

所述的无机纳米粒子的粒径为500～900nm；

(2)在无机纳米粒子分散液中加入硅烷偶联剂，60～100℃下搅拌至改性完成，得到改性无机纳米粒子悬浮液，再进行过滤、离心、洗涤，干燥后得到改性无机纳米粒子；硅烷偶联剂与无机纳米粒子的质量比为1:2.5～5；

(3)在有机溶剂中加入改性无机纳米粒子和无机颜料粒子，均匀分散后，再加入有机聚合物和聚乙烯吡咯烷酮，搅拌至溶解均匀，得到彩色层前驱液；所述的有机聚合物为聚丙烯腈、聚偏氟乙烯中的一种或多种；所述的无机颜料粒子的粒径为0.1～7μm；

(4)在有机溶剂中加入改性无机纳米粒子，均匀分散后，再加入有机聚合物和聚乙烯吡咯烷酮，搅拌至溶解均匀，得到底层前驱液；

(5)依次将所述的底层前驱液和彩色层前驱液在基材上进行涂覆，之后在水中进行凝固浴后脱落成膜，干燥后便得到彩色日间被动辐射冷却双层膜。

2.根据权利要求1所述的彩色日间被动辐射冷却双层膜的制备方法，其特征在于，所述的无机颜料粒子为普鲁士蓝、钛铬棕、钛镍黄、硫化铈红中的一种或多种。

3.根据权利要求1所述的彩色日间被动辐射冷却双层膜的制备方法，其特征在于，所述的硅烷偶联剂为γ‑(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷、3‑氨基丙基三乙氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷中的一种或多种。

4.根据权利要求1所述的彩色日间被动辐射冷却双层膜的制备方法，其特征在于，步骤(3)和步骤(4)中，所述的有机溶剂为N,N‑二甲基甲酰胺、N‑甲基吡咯烷酮、丙酮中的一种或多种。

5.根据权利要求1所述的彩色日间被动辐射冷却双层膜的制备方法，其特征在于，步骤(5)中，所述的涂覆的方式为棒材涂覆或刮涂。

6.一种彩色日间被动辐射冷却双层膜，其特征在于，采用权利要求1～5任一项所述的制备方法制得，其厚度为200～600μm，其中彩色层的厚度为50～100μm，底层厚度为100～

450μm。