1.一种便于调节结晶速率的结晶釜，包括外筒（11），所述外筒（11）顶部设置有筒盖（12），所述外筒（11）内壁底面设置有内筒（13），所述外筒（11）内壁和内筒（13）外壁之间形成用于容纳冷媒水的空仓，其特征在于：所述外筒（11）内部设置有冷却装置（2）、搅拌装置（3）、研磨装置（4）和分散装置（5）；所述冷却装置（2）包括阀门（21）、进水口（22）、出水口（23）和滞水组件（24），所述进水口（22）底部固定在筒盖（12）顶面，所述阀门（21）固定在进水口（22）顶部，所述出水口（23）固定在外筒（11）外壁底部，所述滞水组件（24）设置在外筒（11）内壁；

所述搅拌装置（3）包括刮除组件（33），所述刮除组件（33）设置在内筒（13）内部，所述刮除组件（33）包括刮板（331）、半圆球（332）、滤筒（333）和伸缩杆（334），所述刮板（331）固定在转轴（31）底部，所述伸缩杆（334）固定在内筒（13）内壁，所述滤筒（333）顶部固定在伸缩杆（334）伸缩端，所述半圆球（332）固定在滤筒（333）外壁；

所述研磨装置（4）包括连杆（41）、碾盘（42）、研磨盒（43）、助研组件（44）和擦除组件（45），所述擦除组件（45）包括圆柱（451）、擦杆（452）和打击块（453），所述圆柱（451）固定在研磨盒（43）底部，所述擦杆（452）中部转动连接在圆柱（451）外壁，所述圆柱（451）和擦杆（452）之间通过扭簧连接，所述打击块（453）固定在滤筒（333）顶部，擦杆（452）远离转轴（31）的一端位于打击块（453）运动轨迹上，在搅拌混合时研磨盒（43）底面会飞溅部分混合液，当滤筒（333）左右运动时，滤筒（333）带动打击块（453）左右运动，打击块（453）靠近并敲击擦杆（452），使得擦杆（452）以圆柱（451）为轴转动，当打击块（453）远离擦杆（452）后，擦杆（452）在扭簧作用下复位，从而使得擦杆（452）做往复运动，通过擦杆（452）往复运动对研磨盒（43）底面的混合液进行擦除；

所述分散装置（5）包括进料口（51）、散料口（52）和散料组件（53），所述进料口（51）固定在筒盖（12）上表面，所述散料口（52）顶面固定在筒盖（12）下表面，所述散料组件（53）设置在散料口（52）内部和底面，所述散料组件（53）包括竖杆（531）、竖板（532）、异形杆（533）和转板（534），所述竖板（532）远离出料口的一端转动连接在散料口（52）内壁，所述竖板（532）和散料口（52）内壁之间通过扭簧连接，所述散料口（52）远离出料口的一面开设有通槽，所述转板（534）一端固定在竖板（532）远离出料口的一端，所述转板（534）贯穿通槽，所述转板（534）另一端位于刮板（331）运动轨迹上，所述竖杆（531）固定在竖板（532）顶部，所述异形杆（533）位于散料口（52）底面；

所述搅拌装置（3）包括转轴（31）和螺旋桨（32），所述转轴（31）固定在电机输出端，所述电机固定在筒盖（12）上表面，所述螺旋桨（32）固定在转轴（31）外壁中部。

2.根据权利要求1所述的一种便于调节结晶速率的结晶釜，其特征在于：所述滞水组件（24）包括转轮（241）、若干抵板（242）和若干挡水板（243），所述转轮（241）固定在外筒（11）内壁和内筒（13）外壁之间，若干所述抵板（242）固定在转轮（241）上表面，若干所述挡水板（243）固定在转轮（241）上表面，若干所述抵板（242）和若干挡水板（243）之间设置有弹簧。

3.根据权利要求2所述的一种便于调节结晶速率的结晶釜，其特征在于：所述滤筒（333）外壁开设有若干通孔，所述半圆球（332）位于刮板（331）运动轨迹上。

4.根据权利要求1所述的一种便于调节结晶速率的结晶釜，其特征在于：所述连杆（41）固定在转轴（31）外壁上部，所述碾盘（42）固定在连杆（41）远离转轴（31）的一端，所述研磨盒（43）固定在筒盖（12）下表面，所述研磨盒（43）外壁开设有若干过滤孔，所述连杆（41）、碾盘（42）和助研组件（44）设置在研磨盒（43）内部，所述擦除组件（45）设置在研磨盒（43）底部。

5.根据权利要求4所述的一种便于调节结晶速率的结晶釜，其特征在于：所述助研组件（44）包括助研板（441）和若干助研块（442），所述助研板（441）固定在碾盘（42）底部，若干所述助研块（442）固定在研磨盒（43）内部底面，所述助研板（441）底面开设有若干三角形通槽，若干所述助研块（442）位于若干三角形通槽运动轨迹上。