1.一种基于疏水基底的亲水阵列的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

（1）在疏水基底上覆盖均匀排列若干个孔的掩膜；掩膜的孔为圆形、方形、三角形或其他任意形状，孔的大小0.1‑5mm，间距0.2‑10mm；疏水基底为聚二甲基硅氧烷PDMS、聚丙烯PP或表面改性的玻璃、金属材料或超疏水材料；掩膜为冲孔、激光雕刻、化学刻蚀加工的聚合物、金属或玻璃片材料；

（2）向掩膜上的孔内沉积亲水物质的溶液或悬浮液；其中，沉积方法为超声雾化或喷雾或化学气相沉积；亲水物质为聚乙二醇、聚乙烯吡咯烷酮、明胶、琼脂或含有试剂的物质；

（3）沉积过程中，将可移动掩膜置于多孔掩膜上，通过电机驱动、手工移动改变可移动掩膜的遮挡区域，实现阵列中不同位置亲水物质的量的控制；

（4）将可移动掩膜从疏水基底上移除，使得亲水物质沉积在疏水基底上，形成亲水区域阵列；

（5）重复步骤（2）至（4），在不同位置或不同方向上沉积厚度不同的亲水物质，或在相同位置沉积具有不同厚度的不同种类亲水物质，从而得到具有不同性质或功能的亲水阵列。

2.一种根据权利要求1所述的制备方法制备得到亲水阵列在液滴生成与试剂释放中的应用，其特征在于，包括以下步骤：将亲水阵列置入水性液体中后取出或将水性液体通过亲水阵列；

液滴生成后，形成滴液阵列；将不同相液体倒在液滴阵列上，阻止液滴在空气中的蒸发；其中，亲水阵列中含有试剂，在液滴生成过程中，试剂可以释放到液滴中，实现试剂的传递或反应；在试剂上沉积溶解缓慢物质，实现试剂在液滴内的定时释放。