1.一种低温裂解设备，包括上料装置、裂解装置、下料装置，其特征在于，还包括预热装置；所述上料装置包括预热上料组件和裂解上料组件，所述预热上料组件、所述预热装置、所述裂解上料组件以及所述裂解装置依次设置；

所述预热装置内部设置有预热腔以及设置在所述预热腔内部的散热管道，所述裂解装置包括裂解炉，所述裂解炉设置有废气出口，所述散热管道通过导气管与所述废气出口相连通。

2.如权利要求1所述的低温裂解设备，其特征在于，所述预热装置设置有一个或多个；

或者，单个所述预热装置内部设置有一个或多个预热腔。

3.如权利要求1所述的低温裂解设备，其特征在于，沿物料输送方向，所述预热腔设置有与所述预热上料组件相对应的预热进料口和与所述裂解上料组件相对应的预热出料口；

所述散热管道采用蛇形结构均匀分布在所述预热腔内部除所述预热进料口和所述预热出料口范围之外的内壁上。

4.如权利要求3所述的低温裂解设备，其特征在于，所述预热装置还包括隔热结构，所述隔热结构包覆在所述预热腔的外部。

5.如权利要求4所述的低温裂解设备，其特征在于，还包括监测组件，所述监测组件包括设置在所述裂解炉内部的第一温度传感器、设置在所述废气出口处的第二温度传感器、设置在所述导气管内部的气体流量传感器、设置在所述预热腔内部的第三温度传感器以及设置在所述预热腔和所述隔热结构之间的第四温度传感器。

6.如权利要求5所述的低温裂解设备，其特征在于，所述裂解炉具有上料口，所述裂解上料组件具有保温上料通道，所述保温上料通道的两端分别能够与所述预热出料口和所述上料口相连通。

7.如权利要求6所述的低温裂解设备，其特征在于，所述裂解上料组件包括第一输送装置以及包覆在所述第一输送装置上部的保温罩，所述保温罩与所述第一输送装置之间围有所述保温上料通道；所述监测组件还包括设置在所保温上料通道内部的第五温度传感器。

8.如权利要求7所述的低温裂解设备，其特征在于，所述导气管与所述散热管道的连接处设置有第一控制阀，所述第一控制阀能够封闭或连通所述导气管与所述散热管道；所述导气管与所述废气出口的连接处设置有第二控制阀，所述第二控制阀能够封闭或连通所述导气管与所述废气出口。

9.如权利要求8所述的低温裂解设备，其特征在于，还包括导气泵，所述导气泵设置在所述导气管上；或者，还包括辅助加热装置，所述辅助加热装置设置在所述导气管上。

10.如权利要求9所述的低温裂解设备，其特征在于，还包括控制件，所述控制件分别与所述第一温度传感器、所述第二温度传感器、所述第三温度传感器、所述第四温度传感器、所述第五温度传感器、所述气体流量传感器、所述第一控制阀、所述第二控制阀、所述导气泵以及所述辅助加热装置相连接。