1.真空离子镀膜设备的移动平台定位机构，其特征在于,包括:

底座(10)以及移动平台(20)；

固定结构(30)，所述固定结构(30)安装于底座(10)侧表面，且所述固定结构(30)用于固定；

限位结构(40)，所述限位结构(40)安装于底座(10)上表面，且所述限位结构(40)用于限位；

阻力结构(50)，所述阻力结构(50)安装于限位结构(40)上，且所述阻力结构(50)用于增加阻力；

压力感知结构(60)，所述压力感知结构(60)安装于限位结构(40)上，且所述压力感知结构(60)用于感知压力；

第一定位结构(70)，所述第一定位结构(70)安装于底座(10)上表面，且所述第一定位结构(70)用于定位；

第二定位结构(80)，所述第二定位结构(80)安装于底座(10)上表面，且所述第二定位结构(80)用于定位。

2.如权利要求1所述的真空离子镀膜设备的移动平台定位机构，其特征在于，所述固定结构(30)包括：两对固定圆环(31)以及两对固定螺栓(32)；

两对所述固定圆环(31)安装于底座(10)侧表面，每个所述固定螺栓(32)安装于相对应的固定圆环(31)上。

3.如权利要求1所述的真空离子镀膜设备的移动平台定位机构，其特征在于，所述限位结构(40)包括：两对限位壳体(41)；

所述底座(10)上表面设有两对条形凹槽，每个所述限位壳体(41)安装于相对应的条形凹槽处。

4.如权利要求3所述的真空离子镀膜设备的移动平台定位机构，其特征在于，所述阻力结构(50)包括：四对防滑垫(51)；

每对所述防滑垫(51)安装于相对应的限位壳体(41)上。

5.如权利要求3所述的真空离子镀膜设备的移动平台定位机构，其特征在于，所述压力感知结构(60)包括：两对固定架(61)以及两对压力传感器(62)；

每个所述限位壳体(41)内下表面设有矩形凹槽，每个所述固定架(61)安装于相对应的矩形凹槽处，每个所述压力传感器(62)安装于相对应的固定架(61)上。

6.如权利要求3所述的真空离子镀膜设备的移动平台定位机构，其特征在于，所述第一定位结构(70)包括：四对第一固定支撑架(71)、四对第一电控伸缩杆(72)、四对第一连接板(73)以及四对第一限制定位块(74)；

所述底座(10)上设有四对第一方形凹槽，每个所述第一固定支撑架(71)安装于相对应的第一方形凹槽处，每个所述第一电控伸缩杆(72)安装于相对应的第一固定支撑架(71)上，每个所述第一连接板(73)安装于相对应的第一电控伸缩杆(72)伸缩端上，每个所述第一限制定位块(74)安装于相对应的第一连接板(73)上表面，且每对所述第一限制定位块(74)与相对应的限位壳体(41)相匹配。

7.如权利要求6所述的真空离子镀膜设备的移动平台定位机构，其特征在于，所述第二定位结构(80)包括：四对第二固定支撑架(81)、四对第二电控伸缩杆(82)、第二连接板(83)以及拦阻板(84)；

所述底座(10)上设有条形开口，四对所述第二固定支撑架(81)安装于相对应的条形开口处，每个所述第一电控伸缩杆(72)安装于相对应的第二固定支撑架(81)上，所述第二连接板(83)安装于四对所述第二电控伸缩杆(82)伸缩端上，所述拦阻板(84)安装于第二连接板(83)上。

8.如权利要求1所述的真空离子镀膜设备的移动平台定位机构，其特征在于，所述底座(10)上设有市电接口(90)，所述底座(10)上设有控制器(100)。