1.一种IC引线框架光刻机双光源控制机构，其特征在于，包括：

机体(1)，所述机体(1)上部通过隔板分隔有操控区(2)，所述机体(1)下部通过隔板分隔有扫描区(3)；

上平行光源反射镜(4)，所述上平行光源反射镜(4)设于机体(1)上且位于操控区(2)左侧，所述上平行光源反射镜(4)底部设有上平行光源(5)且位于上平行光源反射镜(4)和上平行光源(5)之间设有上扫描光源(6)；

下平行光源反射镜(7)，所述下平行光源反射镜(7)设于扫描区(3)内且下平行光源反射镜(7)顶部设有下平行光源(8)且下平行光源(8)顶部设有下扫描光源(9)。

2.根据权利要求1所述的一种IC引线框架光刻机双光源控制机构，其特征在于：所述操控区(2)上设有用于操控不同光源的操作面板(10)。

3.根据权利要求1所述的一种IC引线框架光刻机双光源控制机构，其特征在于：所述机体(1)上设有上扫描轨道(11)，所述上扫描光源(6)顶部滑动连接于上扫描轨道(11)上。

4.根据权利要求1所述的一种IC引线框架光刻机双光源控制机构，其特征在于：所述扫描区(3)设有下扫描轨道(12)，所述下扫描光源(9)底部滑动连接于下扫描轨道(12)上。

5.根据权利要求1所述的一种IC引线框架光刻机双光源控制机构，其特征在于：所述上平行光源(5)、上扫描光源(6)、下平行光源(8)、下扫描光源(9)均为LED光源。