1.一种硅片清洗机的清刷机构，包括底板(1)，其特征在于：所述底板(1)的上方固定连接有传动箱体(15)，所述传动箱体(15)的上部设有若干个硅片出入口(13)，所述传动箱体(15)一侧固定连接有电机(8)，所述传动箱体(15)左侧设有旋转支撑组件，所述传动箱体(15)上方设有平行的清刷盘(7)，所述清刷盘(7)一侧固定连接有进气管(14)，所述传动箱体(15)右侧设有两个支撑部，所述支撑部上安装有喷液盘(4)，所述喷液盘(4)一侧固定连接有清洗液水管(6)。

2.根据权利要求1所述硅片清洗机的清刷机构，其特征在于：所述支撑部包括两个相互平行的支撑柱(2)，两个所述支撑柱(2)均通过连接柱(5)与喷液盘(4)固定相连接。

3.根据权利要求1所述硅片清洗机的清刷机构，其特征在于：若干个所述硅片出入口(13)尺寸大小和规则形状完全相同，且分布均匀。

4.根据权利要求1所述硅片清洗机的清刷机构，其特征在于：所述清刷盘(7)底部均匀设有若干个气孔(71)。

5.根据权利要求2所述硅片清洗机的清刷机构，其特征在于：所述旋转支撑组件包括旋转支柱(10)，所述旋转支柱(10)固定连接在底板(1)上，两个所述支撑柱(2)均固定连接在底板(1)上。

6.根据权利要求1所述硅片清洗机的清刷机构，其特征在于：所述喷液盘(4)下方均匀固定连接若干个喷液孔(3)。

7.根据权利要求1所述硅片清洗机的清刷机构，其特征在于：所述传动箱体(15)内部设有用于输送硅片的传动组件。