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专利号: 2023201826916
申请人: 苏州金志弘精密机械股份有限公司
专利类型:实用新型
专利状态:已下证
更新日期:2025-06-12
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种半导体零部件的喷砂机构,包括工作台(1),其特征在于:所述工作台(1)的上表面固定有支架(2),所述支架(2)的上表面设有储料箱(3),所述储料箱(3)的内部设有筛料组件(4),所述储料箱(3)的下表面固定有喷料管(5),所述支架(2)内侧的上表面固定有两个电动伸缩杆(6),两个所述电动伸缩杆(6)的下表面设有移动组件(7);

所述筛料组件(4)包括与储料箱(3)上表面固定的两个第一电机(401),所述第一电机(401)的输出端固定有圆盘(402),所述圆盘(402)的正面固定有连杆(403),所述连杆(403)的外表面固定有拉杆(404),两个所述拉杆(404)的下表面铰接连接有滤网(405)。

2.根据权利要求1所述的一种半导体零部件的喷砂机构,其特征在于:所述储料箱(3)的上表面开设有两个通孔,所述拉杆(404)贯穿通孔至储料箱(3)的内部且与其滑动连接。

3.根据权利要求1所述的一种半导体零部件的喷砂机构,其特征在于:所述拉杆(404)的正面开设有圆孔,所述连杆(403)贯穿至圆孔的外部且与其固定。

4.根据权利要求1所述的一种半导体零部件的喷砂机构,其特征在于:所述移动组件(7)包括与两个电动伸缩杆(6)下表面固定的机仓(701),所述机仓(701)的右侧固定有第二电机(702),所述第二电机(702)的输出端固定有螺杆(703),所述螺杆(703)的外表面螺纹连接有移动块(704),所述移动块(704)的正面固定有立杆(705),所述立杆(705)的正面固定有固定套(706)。

5.根据权利要求4所述的一种半导体零部件的喷砂机构,其特征在于:所述机仓(701)的正面开设有滑孔,所述立杆(705)贯穿滑孔至机仓(701)的外部且与其滑动连接。

6.根据权利要求4所述的一种半导体零部件的喷砂机构,其特征在于:所述移动块(704)的右侧开设有螺纹孔,所述螺杆(703)贯穿至螺纹孔的外部且与其螺纹连接。