1.一种反应釜的清洗结构，包括主体机构(1)、清洗机构(2)和调节机构(3)，其特征在于：所述清洗机构(2)位于主体机构(1)的上端，所述调节机构(3)位于清洗机构(2)的内部，所述主体机构(1)包括支撑底座(101)、支撑腿(102)、工作平台(103)、活动电机(104)、活动连接轴(105)、活动丝杆(106)、反应釜筒(107)和橡胶垫(108)，所述支撑腿(102)固定安装在支撑底座(101)的下端，所述工作平台(103)固定安装在支撑底座(101)的下端，所述活动电机(104)固定安装在工作平台(103)的上端，所述活动连接轴(105)固定安装在活动电机(104)的前端，所述活动丝杆(106)固定安装在活动连接轴(105)的前端，所述反应釜筒(107)固定安装在工作平台(103)的上端，所述橡胶垫(108)固定安装在反应釜筒(107)的上端，所述清洗机构(2)包括电动推杆一(201)、电推杆一(202)、横杆(203)、电动推杆二(204)、电推杆二(205)、清洗电机(206)、清洗传动轴(207)、清洗柱(208)和清洗棉毛刷(209)，所述电动推杆一(201)固定安装在工作平台(103)的上端。

2.根据权利要求1所述的一种反应釜的清洗结构，其特征在于：所述电推杆一(202)固定安装在电动推杆一(201)的上端，所述横杆(203)固定安装在电推杆一(202)的上端。

3.根据权利要求2所述的一种反应釜的清洗结构，其特征在于：所述电动推杆二(204)固定安装在横杆(203)的下端，所述电推杆二(205)固定安装在电动推杆二(204)的下端。

4.根据权利要求3所述的一种反应釜的清洗结构，其特征在于：所述清洗电机(206)固定安装在电推杆二(205)的下端，所述清洗传动轴(207)固定安装在清洗电机(206)的下端。

5.根据权利要求4所述的一种反应釜的清洗结构，其特征在于：所述清洗柱(208)固定安装在清洗传动轴(207)的下端，所述清洗棉毛刷(209)固定安装在清洗柱(208)的外部。

6.根据权利要求5所述的一种反应釜的清洗结构，其特征在于：所述调节机构(3)包括调节电机(301)、调节传动轴(302)、调节丝杆(303)和调节旋转盘(304)，所述调节电机(301)固定安装在横杆(203)的内部，所述调节传动轴(302)固定安装在调节电机(301)的右端。

7.根据权利要求6所述的一种反应釜的清洗结构，其特征在于：所述调节丝杆(303)固定安装在调节传动轴(302)的右端，所述调节旋转盘(304)固定安装在调节丝杆(303)的右端。