1.一种BIM数据零水印方法，其特征在于，所述方法包括：基于密钥 筛选目标类型的图元加入集合E，计算图元中心点坐标，N为集合长度，并采用所有图元坐标平均值的方法计算模型中心点；

排序集合E中图元的Z值，若 或 ，将对应的Z值从集合中删除，获得符合条件的 ，并根据原始水印序列长度n，如式（3）计算步长 ：，

式中Zmax为图元Z值最大值，Zmin为图元Z值最小值；

根据步长 ，将集合E中图元划分到n个簇中，每簇图元的Z坐标符合式（4）：,

式中k为第j个图元簇的图元数量， 为集合中的第i个图元；

计算图元簇 中每一个图元到模型中心点 的范数 并计算簇内偏度度量，根据偏度度量的正负性来构造水印信息 ，如式（5）所示：,

式中 为图元簇的范数偏度度量；

偏度为0时，表明簇内图元范数呈对称，此时设置水印信息为1，最终获得水印序列W；

根据式（6）将W与置乱后的原始水印序列 进行异或操作，得到零水印二值序列：，

式中 表示异或操作。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，通过如下公式计算图元 的范数：，

式中， 、 与 为模型中心点的横坐标、纵坐标与立坐标。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，通过如下公式计算图元簇范数偏度：，

式中， 是图元簇的偏度度量，k是图元簇中图元的数量， 为第i个数据的范数， 为图元簇范数平均值， 是图元簇范数标准差。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括水印信息检测，所述水印信息检测包括：获取BIM数据，对所述BIM数据进行图元分簇，计算每一簇内图元到模型中心点 的范数 ；

计算图元簇范数偏度度量来构造水印信息，获得水印零水印二值序列；

获取IPR数据库中注册二值序列，并将所述水印零水印二值序列和IPR数据库中注册二值序列进行异或操作，生成水印序列，逆置乱获得原始水印图像。

5.一种BIM数据零水印方法装置，其特征在于，所述装置包括：图元分簇模块，被配置为：

基于密钥 筛选目标类型的图元加入集合E，计算图元中心点坐标，N为集合长度，并采用所有图元坐标平均值的方法计算模型中心点；

排序集合E中图元的Z值，若 或 ，将对应的Z值从集合中删除，获得符合条件的 ，并根据原始水印序列长度n，如式（3）计算步长 ：，

式中Zmax为，Zmin为；

根据步长根据步长 ，将集合E中图元划分到n个簇中，每簇图元的Z坐标符合式（4）：,

式中k为第j个图元簇的图元数量， 为集合中的第i个图元；

零水印构造模块，被配置为：

计算图元簇 中每一个图元到模型中心点 的范数 并计算簇内偏度度量，根据偏度度量的正负性来构造水印信息 ，如式（5）所示：,

式中 为图元簇的范数偏度度量；

偏度为0时，表明簇内图元范数呈对称，此时设置水印信息为1，最终获得水印序列W；

根据式（6）将W与置乱后的原始水印序列 进行异或操作，得到零水印二值序列：，

式中 表示异或操作。

6.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，所述零水印构造模块被进一步配置为通过如下公式计算图元 的范数：，

式中， 、 与 为模型中心点的横坐标、纵坐标与立坐标。

7.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，所述零水印构造模块被进一步配置为通过如下公式计算图元簇范数偏度：，

式中， 是图元簇的偏度度量，k是图元簇中图元的数量， 为第i个数据的范数， 为图元簇范数平均值， 是图元簇范数标准差。

8.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，所述装置还包括零水印信息检测模块，所述水印信息检测模块被配置为：获取BIM数据，对所述BIM数据进行图元分簇，计算每一簇内图元到模型中心点 的范数 ；

计算图元簇范数偏度度量来构造水印信息，获得水印零水印二值序列；

获取IPR数据库中注册二值序列，并将所述水印零水印二值序列和IPR数据库中注册二值序列进行异或操作，生成水印序列，逆置乱获得原始水印图像。

9.一种可读存储介质，其特征在于，所述可读存储介质存储有一个或者多个程序，所述一个或者多个程序可被一个或者多个处理器执行，以实现如权利要求1至4中任一项所述的方法。