1.一种PVD涂层界面异质激光冲击元素离渗调控方法，其特征在于，包括以下步骤：基于基材的尺寸大小，对基材进行线切割加工，获取单元基材，其中所述基材为TC4钛合金且尺寸为30mm×30mm×5mm；

基于所述单元基材和不同目数砂纸，对所述单元基材进行逐级打磨，其中砂纸的目数为80#～2500#；

基于乙醇对所述单元基材进行超声波清洗，获取预处理基材；

基于所述预处理基材，选择电弧离子镀和靶材，所述靶材选用纯度为99.99％的Al靶和Cr靶，将所述预处理基材以及所述靶材放入样品室；

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调控所述样品室的真空度小于7×10 Pa，通入氩气到0.2Pa，并确定弧光轰击清洗参数；

向所述样品室通入氮气，控制所述氮气和所述氩气的流量比为1：1，沉积时间90min，获取厚度3μm的PVD涂层，所述PVD涂层为AlCrN层；

基于所述PVD涂层，将所述预处理基材置于真空和600℃热处理环境，并消除所述PVD涂层的应力；

对所述PVD涂层在无吸收层的情况下进行激光冲击强化处理，激光冲击能量分别选用

0.5J、1J、1.5J；

其中，对所述PVD涂层进行激光冲击强化之前，包括：采用厚度1～2mm的流水作为所述激光冲击强化处理的约束层。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述激光冲击强化处理的方法包括基于激光等效峰值压力，选择对应的激光冲击参数；其中所述激光冲击参数包括激光能量、光斑直径及脉冲宽度；

基于选定的激光冲击区域，对所述PVD涂层进行激光冲击强化。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述激光冲击强化的搭接率为50％。