1.一种半导体处理腔室，包括处理腔室主体(1)、水箱(6)，其特征在于：所述处理腔室主体(1)上设置有喷头(2)，所述喷头(2)上固定连接有固定块(21)，所述处理腔室主体(1)上固定安装有水泵(3)，所述水泵(3)上固定连接有进水管(4)，所述进水管(4)上固定连接有连接块(41)，所述连接块(41)与固定块(21)接触，所述固定块(21)上设置有限位机构(8)，所述水泵(3)上固定连接有连接管(5)，所述水箱(6)上通过螺栓连接有盖子(61)，所述水箱(6)上固定连接有出水管(62)，所述出水管(62)与连接管(5)插接，所述水箱(6)上设置有过滤机构(7)。

2.根据权利要求1所述的一种半导体处理腔室，其特征在于：所述限位机构(8)包括安装块(81)、滑杆(82)、限位槽(83)、限位钉(84)、弹簧(85)、限位架(86)、定位块(87)，所述固定块(21)上固定连接有安装块(81)，所述安装块(81)的内部滑动连接有滑杆(82)，所述安装块(81)的内部通过螺纹连接有限位钉(84)，所述滑杆(82)的外侧设置有弹簧(85)，所述滑杆(82)的一端固定连接有限位架(86)，所述限位架(86)分别与安装块(81)、固定块(21)和连接块(41)接触，所述安装块(81)上固定连接有定位块(87)。

3.根据权利要求2所述的一种半导体处理腔室，其特征在于：所述滑杆(82)上开设有限位槽(83)，所述限位槽(83)的内部滑动连接有限位钉(84)。

4.根据权利要求2所述的一种半导体处理腔室，其特征在于：所述弹簧(85)的一端与限位钉(84)接触，所述弹簧(85)的另一端与滑杆(82)接触。

5.根据权利要求2所述的一种半导体处理腔室，其特征在于：所述固定块(21)和连接块(41)的内部均滑动连接有定位块(87)，所述定位块(87)的内部滑动连接有限位架(86)。

6.根据权利要求1所述的一种半导体处理腔室，其特征在于：所述过滤机构(7)包括滤网(71)、电机(72)、支架(73)、安装套(74)、转轴(75)、刮板(76)，所述水箱(6)上固定连接有滤网(71)，所述盖子(61)上固定安装有电机(72)，所述电机(72)与盖子(61)转动连接，所述盖子(61)上固定连接有支架(73)，所述支架(73)上固定连接有安装套(74)，所述安装套(74)的内部通过轴承连接有转轴(75)，所述电机(72)的输出端通过连接有连接有转轴(75)，所述转轴(75)上固定连接有刮板(76)，所述刮板(76)与滤网(71)接触。