1.一种等离子沉积设备，包括设备本体(1)，其特征在于：所述设备本体(1)的顶部靠近一侧边缘处固定有控制箱(2)，所述设备本体(1)的顶部靠近另一侧边缘处固定有沉积盒(3)，所述沉积盒(3)的顶部开设有反应室(8)，所述反应室(8)的内部底面沿圆周方向开设有四个滑道(10)，所述反应室(8)的内壁延圆周方向等距固定有四个第一弹簧(11)，四个所述第一弹簧(11)的一端均焊接有弧形板(9)，四个所述弧形板(9)的底部均对应滑动连接在滑道(10)的内部，所述沉积盒(3)的顶部靠近反应室(8)的内壁开设有卡槽(15)，所述沉积盒(3)的顶部靠近后表面一侧通过铰链转动连接有顶盖(4)，所述设备本体(1)的底部靠近四个拐角处均固定有万向轮(20)，所述设备本体(1)的前表面靠近一侧边缘处通过铰链转动连接有安全门(18)。

2.根据权利要求1所述的一种等离子沉积设备，其特征在于：所述沉积盒(3)的顶部靠近前表面开设有凹槽(12)，所述凹槽(12)的内部底面固定有两个第二弹簧(13)。

3.根据权利要求2所述的一种等离子沉积设备，其特征在于：两个所述第二弹簧(13)的顶部之间固定有限位块(14)，所述沉积盒(3)的前表面靠近顶部边缘处固定有按钮(17)。

4.根据权利要求1所述的一种等离子沉积设备，其特征在于：所述顶盖(4)的底部固定有卡边(16)，所述顶盖(4)的前表面靠近顶部固定有手柄(22)，所述顶盖(4)的顶部固定有离子发生器(5)，所述离子发生器(5)的前表面靠近一侧边缘处固定有滤网(6)。

5.根据权利要求4所述的一种等离子沉积设备，其特征在于：所述卡边(16)滑动连接在卡槽(15)的内部，所述离子发生器(5)的顶部等距固定有多个散热板(7)。

6.根据权利要求1所述的一种等离子沉积设备，其特征在于：所述控制箱(2)的前表面靠近一侧边缘处固定有显示屏(19)，所述控制箱(2)的前表面靠近另一侧边缘处固定有调节旋钮(21)。