1.一种稳定高效的电子束真空镀膜设备，包括镀膜室和卷绕室两部分，镀膜室内设有镀膜系统，卷绕室内设有卷绕系统和线膜厚检测仪，其特征在于：所述卷绕室与镀膜室分别单独连接有不同真空抽速的抽真空系统，且两者间采用隔板隔开并独立抽真空，两个抽真空系统的抽速分别由镀膜原料的材料以及通入的反应气体决定。

2.根据权利要求1所述的一种稳定高效的电子束真空镀膜设备，其特征在于：所述抽真空系统采用粗抽和精抽两种模式，低真空时使用粗抽模式进行快速抽真空，然后再开启精抽模式对设备进行精抽，以达到高真空的工作条件。

3.根据权利要求2所述的一种稳定高效的电子束真空镀膜设备，其特征在于：所述卷绕室的抽真空系统由位于卷绕室顶部的真空管道连接外部的机械泵、罗茨泵和分子泵或者低温泵中任意一种构成。

4.根据权利要求2所述的一种稳定高效的电子束真空镀膜设备，其特征在于：所述镀膜室的抽真空系统由位于镀膜室下方的真空管道连接外部的机械泵、罗茨泵和分子泵或者低温泵任意一种构成。

5.根据权利要求1所述的一种稳定高效的电子束真空镀膜设备，其特征在于：所述镀膜系统包括电子枪系统、坩埚、等离子辅助系统，所述电子枪系统位于镀膜室一侧，包括直型电子枪、偏转磁场系统，所述直型电子枪包括灯丝、发射电子的阴极、加速阳极和聚焦阳极，所述偏转磁场系统位于电子枪的电子束射出区域，由对称安放的电磁铁组成，以产生一个磁场使电子束行进路径弯曲并垂直入射到坩埚上的蒸发材料，所述坩埚位于电子枪系统的下方，等离子辅助系统位于坩埚的正上方，所述等离子辅助系统用以对反应气体进行等离子化处理，其包括空心阴极电子枪、阳极和气体进气系统，所述空心阴极电子枪连接气体进气系统。

6.根据权利要求1所述的一种稳定高效的电子束真空镀膜设备，其特征在于：所述卷绕系统用于收卷薄膜卷材，包括沿薄膜卷材传递方向依次布设的收卷辊、传导辊、镀膜主辊、放卷辊，并通过卷绕张力控制系统的控制下控制系统连接所有的辊，还包括线膜厚检测仪，其位于镀膜主辊到收卷辊间的两个传导辊之间。