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专利号: 2022114126387
申请人: 南京邮电大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
更新日期:2026-09-16
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种可调控偏振发光模式的发光二极管,其特征在于:包括:依次连接的p型电极、第一p型半导体层、第二p型半导体层、第一InGaN势阱层、第一GaN势垒层、第二InGaN势阱层、第二GaN势垒层、第三InGaN势阱层、第三GaN势垒层、第四InGaN势阱层、第四GaN势垒层、n型半导体层、衬底层和n型电极;

所述p型电极、n型电极与第一p型半导体层的长度相等,第二p型半导体层、第一InGaN势阱层、第一GaN势垒层、第二InGaN势阱层、第二GaN势垒层、第三InGaN势阱层、第三GaN势垒层、第四InGaN势阱层、第四GaN势垒层、n型半导体层与衬底层的长度相等;

所述p型电极、n型电极和第一p型半导体层的长度为0.4μm;

所述第二p型半导体层、第一InGaN势阱层、第一GaN势垒层、第二InGaN势阱层、第二GaN势垒层、第三InGaN势阱层、第三GaN势垒层、第四InGaN势阱层、第四GaN势垒层、n型半导体层和衬底层的长度为1μm;

19 ‑3

所述第一p型半导体层的厚度为0.1μm,采用p型掺杂GaN,掺杂浓度为1×10 cm ;

19 ‑3

所述第二p型半导体层的厚度为0.3μm,采用p型掺杂GaN,掺杂浓度为1×10 cm 。

2.根据权利要求1所述的一种可调控偏振发光模式的发光二极管,其特征在于:所述第一InGaN势阱层、第二InGaN势阱层、第三InGaN势阱层和第四InGaN势阱层厚度均为3nm,均采用In0.1Ga0.9N。

3.根据权利要求1所述的一种可调控偏振发光模式的发光二极管,其特征在于:所述第一GaN势垒层、第二GaN势垒层、第三GaN势垒层和第四GaN势垒层厚度均为7nm,均采用GaN。

4.根据权利要求1所述的一种可调控偏振发光模式的发光二极管,其特征在于:所述n

18 ‑3

型半导体层厚度为0.1μm,采用n型掺杂GaN,掺杂浓度为1×10 cm 。

5.根据权利要求1所述的一种可调控偏振发光模式的发光二极管,其特征在于:所述衬

18 ‑3

底层厚度为3μm,采用n型掺杂GaN,掺杂浓度为1×10 cm 。