1.一种直接电化学氧化合成C‑3磷酸化2H‑吲唑类化合物的方法，所述方法包括：以结构式如式(II)所示的2H‑吲唑类化合物和结构如式(II)所示的亚磷酸三烷基酯化合物为反应底物，采用两电极体系，以石墨电极或Pt电极为阳极，以Pt电极、石墨电极、泡沫铜电极或泡沫镍电极为阴极，在含有支持电解质的有机溶剂中，在15～45℃、3～10mA恒电流条件下搅拌电解，反应结束后经分离处理得到结构如式(I)所示的C‑3磷酸化2H‑吲唑类化合物；所述支持电解质为四丁基六氟磷酸铵、四丁基四氟硼酸铵、高氯酸四丁基铵、氟硼酸钠或高氯酸钠，所述有机溶剂为N,N‑二甲基甲酰胺、二氯甲烷、二氯乙烷、乙醇、乙腈或乙腈与六氟异丙醇的混合溶剂；

式(I)～(III)中，

R1为H、卤素或烷氧基；

R2为C1～C4烷基、萘基、苯基或取代苯基，所述的取代苯基和取代萘基的取代基各自独立选自下列之一：卤素、C1～C4的烷基、C1‑C4的烷氧基或酯基；

R3为C1～C4烷基。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于：R1为H、F、Cl、Br或甲氧基，R2为叔丁基、萘基、苯基、卤代苯基、C1～C4烷基取代苯基或C1～C4烷氧基取代苯基，R3为甲基、乙基或异丙基。

3.如权利要求1或2所述的方法，其特征在于：所述2H‑吲唑类化合物和亚磷酸三烷基酯的物质的量比为100：100～300。

4.如权利要求1或2所述的方法，其特征在于：所述有机溶剂为乙腈与六氟异丙醇体积比为9：1～6：4的混合溶剂，有机溶剂质量用量为反应底物2H‑吲唑类化合物质量的100～

300倍。

5.如权利要求1或2所述的方法，其特征在于所述分离处理方法如下：反应结束后减压蒸除溶剂，再进行薄层层析分离，以石油醚/乙酸乙酯体积比5：1的混合液为展开剂，收集含目标化合物的薄层，以二氯甲烷进行洗脱，过滤，滤液蒸除溶剂即得所述C‑3磷酸化2H‑吲唑类化合物。

6.如权利要求1或2所述的方法，其特征在于所述方法如下：以结构式如式(II)所示的

2H‑吲唑类化合物和结构如式(II)所示的亚磷酸三烷基酯化合物为反应底物，采用两电极体系，阳极为石墨电极，阴极为泡沫镍电极，在含有0.05～0.20mol/L四丁基六氟磷酸铵的乙腈/六氟异丙醇的溶液中，加入2H‑吲唑类化合物和亚磷酸三烷基酯，在温度15～45℃、3～10mA的恒电流条件下搅拌电解反应1.5～4.0h后，减压蒸除溶剂，再进行薄层层析分离，以石油醚/乙酸乙酯体积比5：1的混合液为展开剂，收集含目标化合物的薄层，以二氯甲烷进行洗脱，过滤，滤液蒸除溶剂即得所述C‑3磷酸化2H‑吲唑类化合物；所述2H‑吲唑类化合物和亚磷酸三烷基酯的物质的量比为100：200～300；所述乙腈与六氟异丙醇中，乙腈与六氟异丙醇的体积比为9：1～6：4；所述乙腈与六氟异丙醇混合溶剂的质量用量为反应底物

2H‑吲唑类化合物质量的100～300倍。

7.一种C‑3磷酸化2H‑吲唑类化合物，其结构如(I)所示：

式(I)中，

R1为H、卤素或烷氧基；

R2为C1～C4烷基、萘基、苯基或取代苯基，所述的取代苯基和取代萘基的取代基各自独立选自下列之一：卤素、C1～C4的烷基、C1‑C4的烷氧基或酯基；

R3为C1～C4烷基。

8.如权利要求1所述的C‑3磷酸化2H‑吲唑类化合物，其特征在于所述化合物为下列之一：