1.一种合成邻苯二胺类化合物的方法，其特征在于制备过程为：在惰性保护气体下，将羟胺类化合物、醛类化合物和异氰类化合物以及添加剂加入溶剂中溶解，在0～60℃下反应，经后处理得到邻苯二胺类化合物；

所述添加剂为联萘二酚；

其中所述羟胺类化合物结构如式(I)：

1 2

R为五氟苯甲酰基或乙酰基，R选自H、苯基、取代或无取代的烷基、卤素、取代或无取代2

的烷氧基、酯基、羰基，R为取代基时在间位或/和对位，个数为1～3个；

所述醛类化合物结构如式(II)：3

R选自H、取代或无取代的烷基、取代或无取代的芳基、酯基；

所述异氰类化合物结构如式(III)：4

R‑NC (III)，

4

R为苄基；

所述邻苯二胺类化合物结构如式(IV)：

2.根据权利要求1所述的一种合成邻苯二胺类化合物的方法，其特征在于：所述羟胺类2

化合物分子中，R 选自H、苯基、烷基、卤素、酯基、羰基、三氟甲基和三氟甲氧基中的任意一种。

3.根据权利要求1所述的一种合成邻苯二胺类化合物的方法，其特征在于：所述羟胺类化合物分子中， 选自以下基团中的任意一种：其中波浪线对应的键就是与氮原子所成的键。

4.根据权利要求1所述的一种合成邻苯二胺类化合物的方法，其特征在于：所述醛类化3

合物分子中，R 或为H，或为无取代的直链或支链烷基，或为含有卤素、醚键、酯基、烯键、胺基、芳基或杂芳基的直链烷基，或为环烷基，或为芳基，或为酯基。

5.根据权利要求1所述的一种合成邻苯二胺类化合物的方法，其特征在于：所述醛类化3

合物分子中，R选自以下基团中的任意一种：其中波浪线对应的键就是与羰基碳原子所成的键。

6.根据权利要求1～5任意一项所述的一种合成邻苯二胺类化合物的方法，其特征在于：以原料化合物的物质的量计，所述羟胺类化合物的用量为N，所述醛类化合物的用量为N～3N，所述异氰类化合物的用量为N～3N。

7.根据权利要求6所述的一种合成邻苯二胺类化合物的方法，其特征在于：所述添加剂为联萘二酚，用量为0.05～0.2N。

8.根据权利要求1～5任意一项所述的一种合成邻苯二胺类化合物的方法，其特征在于：所述反应在15～35℃条件下进行。

9.根据权利要求1～5任意一项所述的一种合成邻苯二胺类化合物的方法，其特征在于：所述反应在室温下进行，反应28小时。

10.根据权利要求1～5任意一项所述的一种合成邻苯二胺类化合物的方法，其特征在于：所述溶剂为氯仿；所述后处理步骤为，去除溶剂后进行柱层析分离。