1.一种基于玻璃基体的透明超滑表面的制备方法，其特征在于：包括以下步骤，通过金属催化刻蚀工艺制备微纳多孔硅模板：将硅片依次浸入丙酮和乙醇的混合溶液、去离子水中进行超声清洗并吹干；将处理后的硅片浸入酸性金属催化刻蚀液中进行刻蚀，刻蚀完成后浸入清洗液进行清洗，再通过去离子水超声清洗后吹干；

通过模板法制备具有微纳多孔结构的PDMS模板：对二甲基硅氧烷和固化剂进行混合处理后倾倒在微纳多孔硅模板表面，烘干固化，将其与微纳多孔硅模板分离；

在玻璃基体上制备具有微纳多孔结构的UV光学胶透明涂层：在玻璃基体上涂覆透明UV光学胶，然后将PDMS模板覆盖在涂覆了透明UV光学胶的玻璃基体上，通过紫外光照射直至透明UV光学胶固化，分离聚二甲基硅氧烷模板和玻璃基体；

对基于玻璃基体的UV光学胶透明涂层进行疏水化修饰；

在UV光学胶透明涂层表面灌注润滑剂，并将被覆盖的玻璃基体倾斜放置，去除表面多余的润滑剂，即得基于玻璃基体的透明超滑表面。

2.根据权利要求1所述的一种基于玻璃基体的透明超滑表面的制备方法，其特征在于：所述酸性金属催化刻蚀液包括催化金属离子、氧化剂、氢氟酸和去离子水，刻蚀温度为10~

60 ℃，刻蚀时间为0.5 30 min。

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3.根据权利要求2所述的一种基于玻璃基体的透明超滑表面的制备方法，其特征在于：

2+ + + +

所述催化金属离子为Cu 、Ag 、Au 和Pt中的一种或几种，浓度范围为0.01 200 mmol/L；所~述氧化剂包括H2O2、HNO3和KMnO4中的一种或几种，浓度范围为0.1~10 mol/L；所述氢氟酸的浓度范围为1 10 mol/L。

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4.根据权利要求1所述的一种基于玻璃基体的透明超滑表面的制备方法，其特征在于：所述清洗液为硝酸溶液、王水、氨水、盐酸和过氧化氢中的一种或几种，清洗温度为20 60~℃，清洗时间为1 30 min。

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5.根据权利要求1所述的一种基于玻璃基体的透明超滑表面的制备方法，其特征在于：所述混合处理为将二甲基硅氧烷和固化剂混合均匀，并排出气泡。

6.根据权利要求1所述的一种基于玻璃基体的透明超滑表面的制备方法，其特征在于：所述透明UV光学胶的涂覆方式采用滴加或旋涂，且在进行紫外光照射前需去除透明UV光学胶中的气泡。

7.根据权利要求1所述的一种基于玻璃基体的透明超滑表面的制备方法，其特征在于：所述疏水化修饰为将涂覆有UV光学胶透明涂层的玻璃基体浸入疏水修饰剂中作浸泡处理，并用去离子水清洗后烘干。

8.根据权利要求7所述的一种基于玻璃基体的透明超滑表面的制备方法，其特征在于：所述疏水修饰剂为含有疏水长链的硅烷偶联剂，所述含有疏水长链的硅烷偶联剂为十二烷基三甲氧基硅烷、辛基三乙氧基硅烷、十六烷基三甲氧基硅烷、十八烷基三氯硅烷、十七氟癸基三甲氧基硅烷、十三氟辛基三乙氧基硅烷中的一种或几种；

所述浸泡处理的温度范围为20 60℃，浸泡时间为0.5 12 h；

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所述烘干的温度范围为30 60℃，时间为5 30 min。

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9.根据权利要求1所述的一种基于玻璃基体的透明超滑表面的制备方法，其特征在于：所述润滑剂为硅油、全氟硅油和全氟聚醚中的一种或者几种；被覆盖的玻璃基体的倾斜角度为10 90°，其放置时间为0.5 6 h。

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