1.一种超疏水日间被动辐射制冷多孔膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)将无机纳米粒子分散于水中，配置成无机纳米粒子分散液；

(2)向无机纳米粒子分散液中加入含氟基团改性剂，20～40℃下磁力搅拌15‑24h，对无机纳米粒子进行改性，获得改性无机纳米粒子分散液；

改性无机纳米粒子的粒径分布为50～1000nm；

(3)将有机聚合物溶解于有机溶剂中，形成有机聚合物溶液；

(4)将改性无机纳米粒子分散液加入到有机聚合物溶液中，分散均匀，形成前驱液；

(5)将所述的前驱液涂覆在基材上，干燥，即得超疏水日间被动辐射制冷多孔膜。

2.根据权利要求1所述的超疏水日间被动辐射制冷多孔膜的制备方法，所述的无机纳米粒子为二氧化硅、氮化硅和氧化硅纳米粒子中的一种或多种。

3.根据权利要求1所述的超疏水日间被动辐射制冷多孔膜的制备方法，其特征在于，所述的含氟基团改性剂为1H，1H，2H，2H‑全氟辛基三乙氧基硅烷和/或1H，1H，2H，2H‑全氟癸基三乙氧基硅烷。

4.根据权利要求1所述的超疏水日间被动辐射制冷多孔膜的制备方法，其特征在于，步骤(2)中，无机纳米粒子与含氟基团改性剂的质量比为1∶3～15。

5.根据权利要求1所述的超疏水日间被动辐射制冷多孔膜的制备方法，其特征在于，所述的有机聚合物为聚偏氟乙烯‑六氟丙烯、聚二甲基硅氧烷和聚甲基丙烯酸甲酯中的至少一种。

6.根据权利要求1所述的超疏水日间被动辐射制冷多孔膜的制备方法，其特征在于，所述的有机聚合物和有机溶剂的质量比为1∶20～80。

7.根据权利要求1所述的超疏水日间被动辐射制冷多孔膜的制备方法，其特征在于，所述的前驱液中，改性无机纳米粒子的质量分数为1～20％。

8.根据权利要求1所述的超疏水日间被动辐射制冷多孔膜的制备方法，其特征在于，步骤(5)中，所述的涂覆的方式为滴铸、棒材涂覆或刮涂。

9.一种超疏水日间被动辐射制冷多孔膜，其特征在于，采用权利要求1～8任一项所述的制备方法制得，其厚度为100～1000μm。

10.根据权利要求9所述的超疏水日间被动辐射制冷多孔膜，其特征在于，厚度为300～

500μm。