1.一种半导体温差片制热制冷综合系统，包括入口管（9），其特征在于：入口管（9）与入口储室（7‑1）连通，入口储室（7‑1）通过单向阀与一级中间换热储室连接或者与多级中间换热储室串连连接，最后一级中间换热储室为末级中间换热储室（7‑4）；当中间换热储室只有一级时，一级中间换热储室即为末级中间换热储室；

末级中间换热储室（7‑4）通过单向阀与出口储室（7‑6）连通，末级中间换热储室（7‑4）通过调节阀与初级内循环换热储室（7‑7）连通；

初级内循环换热储室（7‑7）通过单向阀与多级中间内循环换热储室串连连接，最后一个中间内循环换热储室通过管道和内循环泵与入口储室（7‑1）连通；

中间内循环换热储室与中间换热储室的数量相适配，且每个中间换热储室与中间内循环换热储室之间设有半导体温差片；初级内循环换热储室（7‑7）与出口储室（7‑6）之间设有半导体温差片；

出口储室（7‑6）连接出口管（10）。

2.根据权利要求1所述的半导体温差片制热制冷综合系统，其特征在于：出口管（10）上设有出口调节阀。

3.根据权利要求1所述的半导体温差片制热制冷综合系统，其特征在于：中间换热储室的体积沿着流体的方向逐渐减小，出口储室（7‑6）的体积小于末级中间换热储室（7‑4）的体积。

4.根据权利要求1所述的半导体温差片制热制冷综合系统，其特征在于：中间内循环换热储室的体积沿着流体的方向逐渐减小。

5.根据权利要求1所述的半导体温差片制热制冷综合系统，其特征在于：出口储室（7‑

6）内设有第一温度传感器（8‑1）。

6.根据权利要求1所述的半导体温差片制热制冷综合系统，其特征在于：初级内循环换热储室（7‑7）内设有第二温度传感器（8‑2）。

7.根据权利要求1所述的半导体温差片制热制冷综合系统，其特征在于：中间换热储室和中间内循环换热储室内均设有挡流板。

8.根据权利要求1所述的半导体温差片制热制冷综合系统，其特征在于：初级内循环换热储室（7‑7）内设有扰流板。

9.根据权利要求1所述的半导体温差片制热制冷综合系统，其特征在于：内循环泵与换热器（6）串连。