1.一种具有梯度纳米结构的耐磨镍镀层的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤一，配制电镀液并调节电镀液pH至4.0 4.5；

~

步骤二，以镍为阳极，以待镀基体为阴极，将阳极和阴极置于电镀液中，在步进式直流电流的作用下沉积形成镀层，所述步进式直流电流的电流密度调节范围为0.25 2.75A/~

2 2 2

dm ，调节幅度为0.25A/dm ，具体地：在电流密度为0.25A/dm 的条件下电镀2000 3000s，在~

2 2

电流密度为0.5A/dm 的条件下电镀400 800s，在电流密度为0.75A/dm的条件下电镀400~ ~

2 2

800s，在电流密度为1A/dm的条件下电镀1000 1300s，在电流密度为1.25A/dm的条件下电~

2 2

镀1000 1300s，在电流密度为1.5A/dm的条件下电镀1000 1300s，在电流密度为1.75A/dm~ 2 ~的条件下电镀300 700s，在电流密度为2A/dm 的条件下电镀100 300s，在电流密度为~ ~

2 2

2.25A/dm的条件下电镀100 300s，在电流密度为2.5A/dm的条件下电镀100 300s，在电流~ ~2

密度为2.75A/dm的条件下电镀100 300s；

~

步骤三，将电镀完成后的中间产品进行退火处理，然后随炉冷却至室温，得到具有梯度纳米结构的耐磨镍镀层。

2.根据权利要求1所述的具有梯度纳米结构的耐磨镍镀层的制备方法，其特征在于：所

2 2

述步骤二中，在电流密度为0.25A/dm的条件下电镀2400s，在电流密度为0.5A/dm的条件下

2 2

电镀600s，在电流密度为0.75A/dm的条件下电镀600s，在电流密度为1A/dm的条件下电镀

2 2

1150s，在电流密度为1.25A/dm的条件下电镀1150s，在电流密度为1.5A/dm的条件下电镀

2 2

1150s，在电流密度为1.75A/dm 的条件下电镀500s，在电流密度为2A/dm 的条件下电镀

2 2

200s，在电流密度为2.25A/dm 的条件下电镀200s，在电流密度为2.5A/dm的条件下电镀2

200s，在电流密度为2.75A/dm的条件下电镀200s。

3.根据权利要求1或2所述的具有梯度纳米结构的耐磨镍镀层的制备方法，其特征在于：所述电镀液包括以下浓度的组分：200~300g/L的NiSO4·6H2O、15~45g/L的NiCl2·6H2O、

15~45g/L的H3BO3和0.1~0.2g/L的C12H25SO3Na。

4.根据权利要求1或2所述的具有梯度纳米结构的耐磨镍镀层的制备方法，其特征在于：所述步骤二中镀层厚度为25 60μm。

~

5.根据权利要求1或2所述的具有梯度纳米结构的耐磨镍镀层的制备方法，其特征在于：所述步骤三的退火处理的退火温度为200 500℃，退火时间为1 2h。

~ ~

6.根据权利要求1或2所述的具有梯度纳米结构的耐磨镍镀层的制备方法，其特征在于：所述步骤二中待镀基体浸入电镀液前进行预处理，具体为：先采用砂纸打磨待镀基体表面，然后采用无水乙醇进行超声清洗，酸洗，用蒸馏水冲洗，吹干待用。

7.一种具有梯度纳米结构的耐磨镍镀层，其特征在于：采用权利要求1 6任一项所述的~具有梯度纳米结构的耐磨镍镀层的制备方法制得。