1.一种高稳定性氮化硼纳米片基荧光复合材料的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

1）将氮化硼粉末加入到熔融碱中，均匀研磨至无颗粒感，得混合物；

2）将掺杂碳量子点溶液加入到步骤1）得到的混合物中，搅拌成糊状混合物；

3）将步骤2）得到的糊状混合物装入到聚四氟乙烯为内衬的不锈钢高压釜中加热反应；

4）将步骤3）反应后得到的产物分散在蒸馏水中，经过超声、离心处理后，分别收集上清液和下层沉降物，将上清液用蒸馏水和乙醇交替洗涤至中性，得到中性上清液Ⅰ；

5）将步骤4）中收集的下层沉降物重新分散在蒸馏水中，经过超声、离心处理后，收集上清液，用蒸馏水和乙醇交替洗涤至中性，得到中性上清液Ⅱ；

6）将步骤4）得到的中性上清液Ⅰ和步骤5）得到的中性上清液Ⅱ混合后放在真空烘箱中烘干，得到高稳定性氮化硼纳米片基荧光复合材料；

步骤2）中，所述的掺杂碳量子点是选自氮、硫、硼、磷掺杂碳量子点中的至少一种，并且在碱性环境中不发生荧光猝灭；所述的掺杂碳量子点的发射波长为400 700 nm；

~

所述的掺杂碳量子点和氮化硼粉末质量比为1:2 100。

~

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤1）中，所述的氮化硼为二维六方氮化硼，粒径为2 20μm。

~

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤1）中，所述的熔融碱为氢氧化钠和氢氧化钾中的一种或两种。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤1）中，所述的氮化硼粉末和熔融碱的质量比为1:1 10。

~

5. 根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤3）中，所述的加热反应温度为

100 200℃，反应时间为0.5 5 h。

~ ~

6. 根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤4）和步骤5）中，所述的超声功率为100 250 W，超声时间为1 8 h，所述的离心速度为500 8000 rpm，离心时间为1 60 min。

~ ~ ~ ~

7. 根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤6）中，所述的烘干温度为40 100~℃，烘干时间为4 24 h。

~