1.一种阵列纳米沟道的制备方法，其特征在于，其包括以下步骤：步骤S1，提取蚕丝蛋白，通过将蚕丝溶解或悬浮在水中，进而提取一种或多种蚕丝蛋白溶液；

步骤S2，基于步骤S1得到的蚕丝蛋白溶液制备蚕丝蛋白薄膜；

步骤S3，蒸发步骤S2制备的蚕丝蛋白薄膜中的水分，形成蚕丝蛋白薄膜层；

步骤S4，基于步骤S3形成的蚕丝蛋白薄膜层制备多层阵列纳米沟道；

其中，步骤S1提取蚕丝蛋白具体包括以下步骤：

2

步骤S11，获取蚕丝丝素：蚕茧壳剪成1cm 的碎片，放入沸腾的碳酸钠溶液中30分钟，重复两次，然后用去离子水冲洗脱胶4‑5次，最后将丝素放在40℃烘箱中烘干；

步骤S12，蚕丝蛋白溶解：在干燥的蚕丝蛋白中加入质量体积比为20％的溴化锂溶液，并放入烘箱中4小时得到蚕丝蛋白‑溴化锂溶液；

步骤S13，蚕丝蛋白透析：将蚕丝蛋白‑溴化锂溶液倒入透析袋中，然后放入去离子水中透析48小时；

步骤S14，蚕丝蛋白过滤：透析之后的蚕丝蛋白溶液用5μm孔径的微孔过滤器过滤两次，获得蚕丝蛋白溶液；

步骤S2制备蚕丝蛋白薄膜具体包括以下步骤：

步骤S21，获取蚕丝蛋白单层薄膜：取1mL浓度为7wt％的蚕丝蛋白溶液用旋涂仪旋涂在

1cm×1cm的硅片上，旋涂速率为1000rpm，然后在90℃热板烘烤5min，得到厚度为350nm的蚕丝蛋白单层薄膜；

步骤S22，将旋涂好薄膜的硅片放入甲醇中浸泡10分钟，丝蛋白薄膜转换成正胶；

步骤S23，将片子置入电子束曝光系统，在表面曝光出宽200nm，长2cm的阵列长方形图案，相邻长方形间的间距为2微米，电子束曝光系统的曝光条件是：加速电压100kV，电子束2

曝光剂量500μC/cm；

步骤S24，在硅片表面旋涂一层浓度蚕丝蛋白溶液，厚度为1μm，然后在90℃热板烘烤

10min，得到第二层蚕丝蛋白单层薄膜；

步骤S25，将片子置入电子束曝光系统，降低加速电压，使得电子束的穿透深度刚好为1μm，第二层负胶薄膜在电子束曝光后不再溶于水；

步骤S26，将曝光的片子放入水中显影，显影时间为120s，轻微振荡，使第一层薄膜中曝光后的丝蛋白完全溶解，形成贯通的单层纳米沟道。

2.依据权利要求1所述的阵列纳米沟道的制备方法，其特征在于，步骤S4制备多层阵列纳米沟道具体包括以下步骤：步骤S401，获取蚕丝蛋白单层薄膜：取1mL浓度为7wt％的蚕丝蛋白溶液用旋涂仪旋涂在1cm×1cm的硅片上，旋涂速率为1000rpm，然后在90℃热板烘烤5min，得到厚度为350nm的蚕丝蛋白单层薄膜；

步骤S402，将旋涂好薄膜的硅片放入甲醇中浸泡10分钟，丝蛋白薄膜转换成正胶；

步骤S403，将硅片置入电子束曝光系统，在表面曝光出宽200nm，长2cm的阵列长方形图案，相邻长方形图案之间的间距为2微米；电子束曝光系统的曝光条件是：加速电压100kV，2

电子束曝光剂量500μC/cm；

步骤S404，在硅片表面旋涂一层浓度蚕丝蛋白溶液，厚度为1μm，然后在90℃热板烘烤

10min，得到第二层蚕丝蛋白单层薄膜；

步骤S405，将硅片置入电子束曝光系统，降低加速电压，使得电子束的穿透深度刚好为

1μm，第二层负胶薄膜在电子束曝光后不再溶于水。

3.依据权利要求2所述的阵列纳米沟道的制备方法，其特征在于，步骤S4进一步包括以下步骤：步骤S406，取1mL浓度为7wt％的蚕丝蛋白溶液用旋涂仪旋涂在1cm×1cm的硅片上，旋涂速率为1000rpm，然后在90℃热板烘烤5min，得到厚度为350nm的第三层蚕丝蛋白薄膜；

步骤S407，将旋涂好薄膜的硅片放入甲醇中浸泡，控制浸泡时间，将表层350nm厚的丝蛋白薄膜转换成正胶，而对第二层负胶无影响；

步骤S408，将硅片置入电子束曝光系统，在表面曝光出宽200nm，长2cm的阵列长方形图案，相邻长方形间的间距为2微米；通过改变加速电压和电子束曝光剂量，确保曝光厚度为

350nm，而不对第二层丝蛋白薄膜产生影响；

步骤S409，在硅片表面旋涂一层浓度蚕丝蛋白溶液，厚度为1μm，然后在90℃热板烘烤

10min，得到第四层蚕丝蛋白单层薄膜；

步骤S410，将硅片置入电子束曝光系统，降低加速电压，使得电子束的穿透深度为1μm，第四层负胶薄膜在电子束曝光后不再溶于水；

步骤S411，将曝光的硅片放入水中显影，显影时间为120s，轻微振荡，使第一和第三层薄膜中曝光后的丝蛋白完全溶解，形成贯通的双层纳米沟道。

4.依据权利要求1所述的阵列纳米沟道的制备方法，其特征在于，构建一种基于蚕丝蛋白的微流控沟道，具体方法是逐层构建蚕丝蛋白薄膜，并依次用高能电子束辐照薄膜的特定区域，以改变薄膜的蛋白分子结构，被辐照的区域水溶性发生变化；对于正胶薄膜层，用电子束刻蚀沟道区域；全部辐照负胶层；最后一次完成显影后，正胶层辐照过的区域溶解于水并形成沟道，全部留下负胶层将各层的沟道隔离开。

5.依据权利要求1至权利要求4之任一阵列纳米沟道的制备方法制备的蚕丝蛋白薄膜，其特征在于，所述蚕丝蛋白薄膜用于光刻胶。

6.依据权利要求5所述的蚕丝蛋白薄膜，其特征在于，所述蚕丝蛋白薄膜用于电子束光刻胶。