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专利号: 2021227848325
申请人: 天津羲泽润科技有限公司
专利类型:实用新型
专利状态:已下证
专利领域: 一般的物理或化学的方法或装置
更新日期:2024-10-29
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种易于清洗的搪瓷反应釜,包括反应釜本体(1),所述反应釜本体(1)上设有与其配合的盖体(2),所述盖体(2)上设有电机支架(3),所述电机支架(3)上设有电机(4),所述电机(4)与搅拌桨(5)连接,所述搅拌桨(5)设置在反应釜本体(1)内;所述反应釜本体(1)的底部设有出料口(6),所述出料口(6)上设有控制阀;其特征在于,所述反应釜本体(1)的内部设有喷水装置,所述喷水装置与可升降装置(7)连接,所述可升降装置(7)固定在电机支架(3)上。

2.根据权利要求1所述的一种易于清洗的搪瓷反应釜,其特征在于,所述喷水装置包括可伸缩进水管(8),所述可伸缩进水管(8)的一端延伸出盖体(2),所述可伸缩进水管(8)的另一端与进水槽(9)连接,所述进水槽(9)与喷水盘(10)连通,所述喷水盘(10)上设置有多个喷头(11);所述喷水盘(10)的中部设有固定支架(12),所述喷水盘(10)通过固定支架(12)与可升降装置(7)连接。

3.根据权利要求2所述的一种易于清洗的搪瓷反应釜,其特征在于,所述喷水盘(10)的上部设有刮板(14)。

4.根据权利要求1所述的一种易于清洗的搪瓷反应釜,其特征在于,所述反应釜本体(1)底部的内部设有底部清洗装置。

5.根据权利要求4所述的一种易于清洗的搪瓷反应釜,其特征在于,所述底部清洗装置包括弧状刮板(17),所述弧状刮板(17)与连接板(18)连接,所述连接板(18)与旋转轴(19)连接,所述旋转轴(19)与电机连接。

6.根据权利要求5所述的一种易于清洗的搪瓷反应釜,其特征在于,所述旋转轴(19)的外侧设有稳定柱(20)。

7.根据权利要求2或3所述的一种易于清洗的搪瓷反应釜,其特征在于,所述喷头(11)包括侧壁喷头(15)和底部喷头(16)。