1.一种异形导轨真空吸附夹持装置，其特征是：设有支架，所述支架上固定设有上支撑架，所述上支撑架上设有真空吸盘；所述支架包括多个支架底板，所述支架底板上固定设有支架立板，所述支架立板与上支撑架固定连接；所述上支撑架包括多个立板，所述立板的两侧分别设有槽，所述立板的两侧边缘上位于槽的外侧分别固定设有辅助支板，所述立板的中间位置与真空吸盘固定连接，所述真空吸盘的上表面外侧圆周设有密封环槽，所述密封环槽的内部镶嵌设有密封圈，所述密封圈的上表面高于真空吸盘的上表面，所述真空吸盘的上表面位于密封环槽的内侧设有真空吸槽，所述真空吸槽呈交错分布，所述真空吸槽与密封环槽相连通，所述真空吸槽的底部间隔设有多个真空吸孔。

2.根据权利要求1所述的一种异形导轨真空吸附夹持装置，其特征在于：所述密封圈的上表面高于真空吸盘的上表面0.3mm‑0.8mm。

3.根据权利要求1所述的一种异形导轨真空吸附夹持装置，其特征在于：所述支架底板为7个。

4.根据权利要求1所述的一种异形导轨真空吸附夹持装置，其特征在于：相邻真空吸槽之间的距离为200mm‑250mm。

5.根据权利要求1所述的一种异形导轨真空吸附夹持装置，其特征在于：所述密封环槽的截面形状为矩形，矩形的宽度为8mm，高度为7mm。

6.根据权利要求1‑5任一所述的一种异形导轨真空吸附夹持装置，其特征在于：所述真空吸盘上放置异形导轨，所述异形导轨包括导轨外平面和导轨内平面，所述导轨外平面与真空吸盘的上表面接触，所述导轨内平面的两侧设有导轨侧表面，所述导轨侧表面的外侧分别设有导轨延伸段，所述导轨延伸段的外平面与辅助支板的上表面接触。

7.根据权利要求1‑5任一所述的一种异形导轨真空吸附夹持装置，其特征在于：所述立板的侧面设有侧压紧板，所述侧压紧板上设有固定螺钉，所述固定螺钉贯穿通过侧压紧板与立板为螺纹旋转连接，所述固定螺钉的上侧设有锁紧螺钉，所述锁紧螺钉与侧压紧板为螺纹旋转连接，所述锁紧螺钉的一端旋转贯穿通过侧压紧板。