1.一种疏水纳米纤维材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)将木质素溶于异丙醇/N,N二甲基甲酰胺/丙酮的混合溶剂中，得木质素溶液；

(2)向木质素溶液中滴加硅烷改性试剂，木质素固体和硅烷改性试剂的质量比为1:0.1～0.5，滴加酸性试剂至溶液pH4～6后，在室温反应，过滤，得硅烷改性木质素；

(3)硅烷改性木质素与高分子聚合物助纺剂按照质量比0.1～1:1混合，溶解于纺丝溶剂中，得溶质含量为1～15wt％的静电纺丝液；

(4)静电纺丝液通过静电纺丝工艺进行纺丝，经热处理得疏水纳米纤维材料。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在步骤(1)中，在所述的混合溶剂中异丙醇、N,N二甲基甲酰胺、丙酮的体积比为1：0.1～1：0.1～1。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在步骤(2)中，所述的硅烷改性试剂为γ‑甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、γ‑缩水甘油醚氧丙基三甲氧基硅烷、γ‑氨丙基三乙氧基硅烷、十七氟癸基三甲氧基硅烷、三氟丙基甲基二甲(3,3,3‑三氟丙基)甲基二甲氧基硅烷、γ‑甲基丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、γ‑缩水甘油醚氧丙基三乙氧基硅烷、γ‑氨丙基三甲氧基硅烷、十七氟癸基三乙氧基硅烷、三氟丙基甲基二甲(3,3,3‑三氟丙基)甲基二乙氧基硅烷中的一种或几种。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在步骤(2)中，所述酸性试剂为乙酸或盐酸。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在步骤(3)中，所述的高分子聚合物助纺剂为聚乳酸、聚丙烯腈、聚环氧乙烷、乙酸纤维素中的一种或一种以上，所述的纺丝溶剂为乙酸乙酯、丙酮、N,N二甲基甲酰胺、N,N二甲基乙酰胺、异丙醇、甲酸、乙酸中的一种或一种以上。

6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在步骤(4)中，所述静电纺丝工艺的纺丝条件为：静电电压15‑35kV、接收距离10‑35cm、静电纺丝液推速0.1‑1mL/h。

7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在步骤(4)中，以电子元器件为基材进行静电纺丝，以使纺丝出的疏水纳米纤维直接附着于基板上，经热处理经得疏水纳米纤维附着电子元器件。

8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述电子元器件为PCB板或具有开口的微机电系统器件。

9.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，对疏水纳米纤维附着电子元器件的疏水纳米纤维附着面进行图案化处理，获得图案化纳米纤维附着电子元器件。

10.根据权利要求1～9的任一项所述的制备方法，其特征在于，所述热处理条件为：热处理目标温度200～300℃，升温速率0.01‑2.00℃/min。