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专利号: 202111393150X
申请人: 齐鲁工业大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
更新日期:2025-12-30
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种硅锗UTL型大孔分子筛的制备方法,其特征在于,所述方法具体包括以下步骤:(1)将有机模板剂7‑氮杂螺‑[6,6]‑十三烷氢氧化物的溶液、锗源和去离子水混合,搅拌至澄清,然后逐滴滴加硅源,完毕后,在室温下搅拌30min,得到反应物;

(2)将凝胶反应物转移到有聚四氟乙烯内衬的高压反应釜中,然后放入旋转烘箱,在旋转晶化后,冷却至室温获得固体产物;

(3)将步骤(2)得到的固体产物用去离子水洗涤,至滤液的pH小于8,放入烘箱干燥过夜,得到硅锗UTL型大孔分子筛。

2.根据权利要求1所述的硅锗UTL型大孔分子筛的制备方法,其特征在于,所述制备方法还包括将UTL分子筛放入马弗炉中,焙烧后,得到脱除模板剂的高结晶度的UTL分子筛。

3. 根据权利要求1所述的硅锗UTL型大孔分子筛的制备方法,其特征在于,所述步骤(1)中,7‑氮杂螺‑[6,6]‑十三烷分子与去离子水形成的溶液的质量浓度为10‑50 wt%。

4.根据权利要求3所述的硅锗UTL型大孔分子筛的制备方法,其特征在于,所述步骤(1)中,所述7‑氮杂螺‑[6,6]‑十三烷分子与锗源的摩尔比是3:4;去离子水和锗源的摩尔比是H2O:GeO2=37.5:1。

5.根据权利要求4所述的硅锗UTL型大孔分子筛的制备方法,其特征在于,所述锗源为二氧化锗、四甲基锗、异丁基锗烷、四氯化锗和硝酸锗中的至少一种。

6.根据权利要求5所述的硅锗UTL型大孔分子筛的制备方法,其特征在于,GeO2加入到有机模板剂溶液中后,室温搅拌5‑30分钟,使锗源充分溶解。

7.根据权利要求1所述的硅锗UTL型大孔分子筛的制备方法,其特征在于,所述步骤(1)中,硅源和锗源的摩尔比是SiO2:GeO2=2:1,硅源加入到澄清溶液中后在室温下搅拌30分钟,得到反应物,所述反应物为凝胶混合物。

8.根据权利要求7所述的硅锗UTL型大孔分子筛的制备方法,其特征在于,所述硅源为硅酸四乙酯、硅酸、发烟硅胶、水玻璃和硅溶胶的至少一种。

9.根据权利要求1所述的硅锗UTL型大孔分子筛的制备方法,其特征在于,所述步骤(2)中,晶化处理的条件为:在150‑180℃下旋转晶化96‑168小时。

10.根据权利要求9所述的硅锗UTL型大孔分子筛的制备方法,其特征在于,在175℃下旋转晶化96小时,以达到降低能耗和保证样品晶化程度的平衡。

11. 根据权利要求9所述的硅锗UTL型大孔分子筛的制备方法,其特征在于,旋转转速为15‑40 rpm。

12. 根据权利要求11所述的硅锗UTL型大孔分子筛的制备方法,其特征在于,制备较小的晶粒旋转转速为40 rpm。

13. 根据权利要求11所述的硅锗UTL型大孔分子筛的制备方法,其特征在于,制备较大晶粒旋转转速为15 rpm。

14.根据权利要求9所述的硅锗UTL型大孔分子筛的制备方法,其特征在于,所述晶化过程为恒温状态下封闭高压釜内全程动态晶化;晶化处理后还包括对所得晶化产物进行洗涤、分离、干燥、焙烧的步骤。

15.根据权利要求1所述的硅锗UTL型大孔分子筛的制备方法,其特征在于,所述步骤(3)中,洗涤过程为边抽滤边用去离子水洗涤,直到所得滤液的pH小于8;所述干燥温度为

60‑90℃。

16.根据权利要求2所述的硅锗UTL型大孔分子筛的制备方法,其特征在于,焙烧温度为

500‑700℃,焙烧时间为3‑4小时。

17.根据权利要求16所述的硅锗UTL型大孔分子筛的制备方法,其特征在于,在600℃下焙烧3小时。