1.一种电解铝原料清洗装置，其特征在于，包括：壳体；

密封组件，设置在壳体内，用于对电解铝原料除尘区域进行封闭；

除尘组件，设置在密封组件内，用于对电解铝原料进行初步除尘，除尘组件包括：过滤筒件，设置在壳体内，用于对电解铝原料进行过滤并将电解铝原料与灰尘隔离；

排尘件，固定安装在壳体上且与壳体连通，用于将过滤出的灰尘排出壳体；

第一旋转动力件；

第一转轴，转动安装在第一遮挡件上且与过滤筒件轴线重合，其一端与第一旋转动力件输出端固定连接；

刮板，固定安装在第一转轴上，用于带动过滤筒件内的电解铝原料翻动；

封闭单元，用于对过滤筒件进行封闭；

清洗组件，设置在壳体内，用于对除尘组件内下落的电解铝原料进行深度清洗，清洗组件包括：

清洗件，设置在壳体内，用于对电解铝原料进行清洗；

转动件，设置在壳体内，用于带动电解铝原料和水转动进行清洗。

2.根据权利要求1所述的一种电解铝原料清洗装置，其特征在于，所述密封组件包括：固定密封件，固定安装在壳体内壁上；

移动密封件，滑动安装在壳体上且与过滤筒件固定连接，用于与固定密封件抵触实现密封；

第一伸缩件，固定安装在壳体外侧表面上，其输出端与移动密封件一端固定连接，用于带动移动密封件移动。

3.根据权利要求1所述的一种电解铝原料清洗装置，其特征在于，所述封闭单元包括：第一遮挡件，固定安装在固定密封件上，用于对滤筒件的一端进行遮挡；

第二遮挡件，通过固定杆固定安装在壳体内，其外侧表面与过滤筒件滑动连接。

4.根据权利要求1所述的一种电解铝原料清洗装置，其特征在于，所述清洗组件还包括：

固定单元，设置在壳体内，用于对除尘后的电解铝原料进行限位并进行清洗；

移动单元，设置在壳体内，用于带动电解铝原料转动及出料使用。

5.根据权利要求4所述的一种电解铝原料清洗装置，其特征在于，所述固定单元包括：筒壁，固定安装在壳体内，用于对除尘后的电解铝原料进行限位；

安装件，转动安装在筒壁上且沿筒壁径向方向分布，其与清洗件固定连接。

6.根据权利要求5所述的一种电解铝原料清洗装置，其特征在于，所述移动单元包括：底板，用于与筒壁抵触形成半密封结构；

第二伸缩件，固定安装在壳体内，其输出端与底板固定连接；

第二旋转动力件，通过支架固定安装在底板上；

第二转轴，转动安装在底板上且与第二旋转动力件输出端固定连接，其与转动件固定连接；

分散件，固定安装在第二转轴的端部，用于分散除尘后的电解铝原料。