1.一种原料清洗装置，包括清洗箱(1)、进料口(2)、放水旋塞(3)，所述清洗箱(1)的顶部设置有进料口(2)，所述清洗箱(1)的底部设置有放水旋塞(3)，其特征在于：所述清洗箱(1)的内壁固定连接有锥形板(4)，所述清洗箱(1)的内壁通过连接杆(5)固定连接有固定筒(6)，所述固定筒(6)的内侧设置有搅拌机构(7)，所述锥形板(4)的底端连接有排料管(8)，所述排料管(8)的进口端处设置有第一阀门(9)，所述排料管(8)的出口端处设置有第二阀门(10)，所述排料管(8)的下表面设置有第一过滤网(11)，所述清洗箱(1)的内底壁固定连接有挡板(12)，所述挡板(12)的一侧与清洗箱(1)的内壁之间设置有第二过滤网(13)，所述挡板(12)的另一侧设置有集渣腔(14)，所述第二过滤网(13)的下方设置有储液腔(15)，所述清洗箱(1)的一侧设置有水泵(16)，所述水泵(16)的两个端口均连接有输水管(17)，一个所述输水管(17)与储液腔(15)连通，另一个所述输水管(17)的出口端位于固定筒(6)上方的一侧，所述清洗箱(1)的另一侧固定连接有放置板(18)，所述放置板(18)上放置有收集盒(19)，所述清洗箱(1)的正面设置有控制面板(20)，所述控制面板(20)内有微处理器，所述搅拌机构(7)和水泵(16)均与微处理器连接。

2.根据权利要求1所述的一种原料清洗装置，其特征在于：所述清洗箱(1)的内壁位于固定筒(6)上方设置有倾斜部(21)，一个所述输水管(17)的出口端位于倾斜部(21)的上方。

3.根据权利要求1所述的一种原料清洗装置，其特征在于：所述放水旋塞(3)位于储液腔(15)的底部，所述集渣腔(14)的底部设置有排渣旋塞(22)。

4.根据权利要求1所述的一种原料清洗装置，其特征在于：所述搅拌机构(7)包括电机(701)、转轴(702)、螺旋输送叶(703)和刮板(704)，所述清洗箱(1)的顶部设置有电机(701)，所述电机(701)的输出端位于固定筒(6)的内侧连接有转轴(702)，所述转轴(702)上设置有多个螺旋输送叶(703)，所述转轴(702)的底端固定连接有刮板(704)，所述电机(701)与微处理器连接。

5.根据权利要求1所述的一种原料清洗装置，其特征在于：所述清洗箱(1)的内壁位于第一过滤网(11)的下方固定连接有倾斜板(23)，所述倾斜板(23)的低端位于第二过滤网(13)的上方。