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专利号: 2021112228714
申请人: 中南大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
更新日期:2026-05-14
缴费截止日期: 暂无
联系人

摘要:

权利要求书:

1.一种水力射流振荡器元件,包括盖板(1)、基板(2)以及侧壁,所述盖板(1)、所述基板(2)和所述侧壁形成腔体,其特征在于:射流构件(3),设置在所述腔体内并将所述腔体分隔为振荡腔(4)、涡流腔(5)和输出通道(6),所述振荡腔(4)和所述涡流腔(5)通过所述输出通道(6)连通,所述射流构件(3)设置有用于流体流动的半封闭槽,所述振荡腔(4)正对所述半封闭槽的开口方向,所述涡流腔(5)背对所述半封闭槽的开口方向;

流入孔(7),设置在所述盖板(1)上,所述流入孔(7)与所述半封闭槽连通;

第一流出孔(8),设置在所述盖板(1)和/或基板(2)上,所述第一流出孔(8)连通所述涡流腔(5)。

2.根据权利要求1所述的水力射流振荡器元件,其特征在于:所述振荡腔(4)包括第一曲面,所述第一曲面正对半封闭槽的开口方向,所述涡流腔(5)包括第二曲面,所述第二曲面背对所述半封闭槽的开口方向。

3.根据权利要求2所述的水力射流振荡器元件,其特征在于:所述第一流出孔(8)设置在所述涡流腔(5)的形心处。

4.根据权利要求1‑3任一项所述的水力射流振荡器元件,其特征在于:所述射流构件(3)朝向涡流腔(5)的一侧设置有向半封闭槽方向凹陷的第三曲面。

5.根据权利要求4所述的水力射流振荡器元件,其特征在于:所述半封闭槽的开口面积小于所述流入孔(7)的面积。

6.根据权利要求5所述的水力射流振荡器元件,其特征在于:所述半封闭槽从封闭方向朝向开口方向设置有供流体增速的多阶增速结构。

7.根据权利要求1所述的水力射流振荡器元件,其特征在于:所述盖板(1)上还设置有第二流出孔,所述第二流出孔设置在振荡腔(4)的形心处。

8.根据权利要求1所述的水力射流振荡器元件,其特征在于:所述水力射流振荡器元件一体制成。