1.一种光敏植酸基附着力促进剂，其特征在于，该物质具有式(1)结构：其中，R相互独立地代表‑H或者‑CH2CHOHCH2OCOC(CH3)＝CH2，并且R不能同时全为‑H，也不能同时全为‑CH2CHOHCH2OCOC(CH3)＝CH2。

2.如权利要求1所述的一种光敏植酸基附着力促进剂，其特征在于，所述R为‑CH2CHOHCH2OCOC(CH3)＝CH2的取代基占R基团总量的28.36～63.45wt％。

3.如权利要求1或2所述的一种光敏植酸基附着力促进剂的制备方法，其特征在于，所述制备方法为：将植酸水溶液与甲基丙烯酸缩水甘油酯混合，在相转移催化剂和阻聚剂的作用下反应，经纯化后得到所述光敏植酸基附着力促进剂。

4.如权利要求3所述的一种光敏植酸基附着力促进剂的制备方法，其特征在于，所述植酸与GMA的摩尔比为1∶3～1∶12，优选地为1∶(9～12)。

5.如权利要求3所述的一种光敏植酸基附着力促进剂的制备方法，其特征在于，所述相转移催化剂包括四丁基溴化铵、四丁基氯化铵、苄基三乙基氯化铵、十二烷基三甲基氯化铵，添加量为0.2～5wt％；

所述阻聚剂包括对苯二酚、间苯二酚、对苯醌、对羟基苯甲醚.，添加量为0.1～

0.5wt％。

6.如权利要求3所述的一种光敏植酸基附着力促进剂的制备方法，其特征在于，所述反应的温度为25～90℃；所述反应时间为0.5～2h。

7.如权利要求3所述的一种光敏植酸基附着力促进剂的制备方法，其特征在于，所述植酸水溶液的浓度为5～80wt％。

8.如权利要求1或2所述的一种光敏植酸基附着力促进剂或如权利要求3～7任一所述制备方法所得的光敏植酸基附着力促进剂的应用，其特征在于，所述光敏植酸基附着力促进剂运用在光固化金属涂料中。

9.如权利要求8所述的一种光敏植酸基附着力促进剂的应用，其特征在于，所述光敏植酸基附着力促进剂在光固化金属涂料中的添加量为0.1～10wt％。

10.如权利要求8或9所述的一种光敏植酸基附着力促进剂的应用，其特征在于，所述光固化金属涂料的组成包括所述光敏植酸基附着力促进剂、树脂、活性稀释剂、光引发剂、流平剂。