1.一种基于线偏压位置的太赫兹波相位调控系统，其特征在于，包括：激光发生装置(1)、脉宽和能量调节装置(2)、探测激光路(3)、具有线高压装置的泵浦激光路(4)和太赫兹探测器(5)；

所述激光发生装置(1)发出入射激光脉冲，入射激光脉冲经过脉宽和能量调节装置(2)进行脉冲调节和能量调节后分成两束激光：一束作为探测激光经过探测激光路(3)的时间延迟并聚焦到达太赫兹探测器(5)；

一束作为泵浦激光进入具有线高压装置的泵浦激光路(4)后形成等离子体通道，具有线高压装置的泵浦激光路(4)对等离子体通道不同位置加载电场，等离子体通道辐射出太赫兹波经聚焦后到达太赫兹探测器(5)。

2.根据权利要求1所述的一种基于线偏压位置的太赫兹波相位调控系统，其特征在于，所述脉宽和能量调节装置(2)包括：光栅对(21)、1/2波片(22)、第一反射镜(23)和第二反射镜(24)，所述激光发生装置(1)发出的入射激光脉冲先经过光栅对(21)改变激光脉宽后，再经过1/2波片(22)后到达第一反射镜(23)，经第一反射镜(23)的布儒斯特角反射后到达第二反射镜(24)，经第二反射镜(24)的布儒斯特角反射后分成两束激光。

3.根据权利要求2所述的一种基于线偏压位置的太赫兹波相位调控系统，其特征在于，还包括分束镜(6)，经第二反射镜(24)90°反射后的入射激光脉冲经分束镜(6)分为探测激光和泵浦激光。

4.根据权利要求1所述的一种基于线偏压位置的太赫兹波相位调控系统，其特征在于，所述探测激光路(3)包括时间延迟光路和第一聚焦光路；

所述时间延迟装置由多个反射镜构成，探测激光经过多个反射镜反射后延时到达聚焦光路；聚焦光路由反射镜和透镜构成，探测激光经反射镜反射至透镜，由透镜进行聚焦到太赫兹探测器(5)。

5.根据权利要求4所述的一种基于线偏压位置的太赫兹波相位调控系统，其特征在于，所述时间延迟光路包括：第三反射镜(31)、第四反射镜(32)、第五反射镜(33)和第六反射镜(34)；

探测激光经第三反射镜(31)90°反射后到达第四反射镜(32)，经第四反射镜(32)90°反射后到达第五反射镜(33)，经第五反射镜(33)90°反射后到达第六反射镜(34)，经第六反射镜(34)90°反射后到达聚焦光路；

所述聚焦光路包括第七反射镜(35)和第一透镜(36)，探测激光经过第七反射镜(35)

90°反射后到达第一透镜(36)，经透镜进行聚焦到太赫兹探测器(5)。

6.根据权利要求1所述的一种基于线偏压位置的太赫兹波相位调控系统，其特征在于，所述具有线高压装置的泵浦激光路(4)包括：第二聚焦光路、线高压装置和第三聚焦光路；

泵浦激光经第二聚焦光路聚焦形成长度为厘米量级的等离子体通道穿过线高压装置，线高压装置在等离子体通道上加载匀强电场，加载了匀强电场中的等离子体通道辐射出宽带的太赫兹波，太赫兹波经过第三聚焦光路聚焦到太赫兹探测器(5)上。

7.根据权利要求6所述的一种基于线偏压位置的太赫兹波相位调控系统，其特征在于，所述第二聚焦光路包括第八反射镜(41)和第二透镜(42)，泵浦激光经第八反射镜(41)90°反射后到达第二透镜(42)，经第二透镜(42)聚焦形成长度为厘米量级的等离子体通道；

所述线高压装置包括：第一电极(43)、第二电极(44)和电控滑块(45)，所述第一电极(43)接地，第一电极(43)与第二电极(44)之间形成直流匀强电场加载在等离子体通道上；

电控滑块(45)调节直流匀强电场在等离子体通道上的加载位置；

所述第三聚焦光路包括第九反射镜(46)和第三透镜(47)，加载了直流匀强电场的等离子体通道辐射出宽带的太赫兹波，太赫兹波经第九反射镜(46)90°反射后到达第三透镜(47)，经第三透镜(47)聚焦到太赫兹探测器(5)。

8.根据权利要求7所述的一种基于线偏压位置的太赫兹波相位调控系统，其特征在于，第一电极(43)和第二电极(44)均与所述电控滑块(45)连接，电控滑块(45)驱动第一电极(43)和第二电极(44)同步沿等离子体通道移动。

9.根据权利要求8所述的一种基于线偏压位置的太赫兹波相位调控系统，其特征在于，所述第一电极(43)与第二电极(44)均采用铜片电极。

10.根据权利要求1所述的一种基于线偏压位置的太赫兹波相位调控系统，其特征在于，所述激光发生装置(1)发出入射激光脉冲为单色激光脉冲，所述入射激光脉冲的重复频率为1kHz、脉宽为200ps、能量为6.8mJ。