1.一种贵金属结构产生圆二色信号的结构，其特征在于，所述结构包括：第一结构层、光刻胶层和第二结构层，所述光刻胶层的两侧分别设置有所述第一结构层和所述第二结构层，且所述第一结构层和所述第二结构层为相互互补的结构，所述第一结构层包括多个周期设置的纳米结构部，所述纳米结构部包括：第一纳米结构块、第二纳米结构块和纳米线，所述第一纳米结构块和所述第二纳米结构块分别设置在所述纳米线的两侧，且所述第一纳米结构块和所述第二纳米结构块为非轴对称结构排布，所述第二结构层中的间隙中填充有光刻胶，其中，所述第一结构层和所述第二结构层的材料为贵金属材料。

2.根据权利要求1所述的贵金属结构产生圆二色信号的结构，其特征在于，所述纳米线的宽度为40nm‑140nm。

3.根据权利要求2所述的贵金属结构产生圆二色信号的结构，其特征在于，所述光刻胶层的厚度为40nm‑140nm。

4.根据权利要求3所述的贵金属结构产生圆二色信号的结构，其特征在于，所述纳米结构部的所述第一纳米结构块和所述第二纳米结构块的形状为长方形或者平行四边形。

5.根据权利要求4所述的贵金属结构产生圆二色信号的结构，其特征在于，所述纳米结构部的所述第一纳米结构块和所述第二纳米结构块的数量为1个或2个。

6.根据权利要求5所述的贵金属结构产生圆二色信号的结构，其特征在于，所述纳米结构部的所述第一纳米结构块和所述第二纳米结构块向所述第二结构层的方向倾斜。

7.一种贵金属结构产生圆二色信号的结构的制备方法，用于制备权利要求1‑6任意一项所述的贵金属结构产生圆二色信号的结构，其特征在于，所述方法包括：在玻璃基底的一侧使用甩胶机涂覆光刻胶；

烘干所述光刻胶层的一侧的光刻胶，并使用电子束曝光技术对所述光刻胶层一侧的光刻胶按照预设图像进行刻蚀；

使用显影液将刻蚀的基底进行定影，并烘干；

使用蒸发镀膜机按照所述光刻胶层的一侧上刻蚀的形状垂直蒸镀金属结构，得到第一结构层、光刻胶层和第二结构层。

8.根据权利要求7所述的贵金属结构产生圆二色信号的结构的制备方法，其特征在于，所述在玻璃基底的一侧使用甩胶机涂覆光刻胶的步骤之前还包括：用去离子水超声清洗所述玻璃基底15min后，用丙酮超声清洗所述玻璃基底15min，再用酒精超声清洗所述玻璃基底15min，之后用去离子水超声清洗所述玻璃基底5min，最后用氮气枪吹干所述玻璃基底。

9.根据权利要求8所述的贵金属结构产生圆二色信号的结构的制备方法，其特征在于，所述显影液为四甲基二戊酮与异丙醇以体积比为3:1的混合溶液。