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专利号: 2021105188515
申请人: 湖北科技学院
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
专利领域: 光学
更新日期:2024-10-29
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种图厄‑摩尔斯序列多层电介质与石墨烯的复合结构,其特征在于,包括两个对称分布的复合组件,所述复合组件包括一个石墨烯层(G)、若干第一电介质层(A)和若干第二电介质层(B),所述复合组件中的石墨烯层(G)、第一电介质层(A)和第二电介质层(B)三者的排布规律为:由外侧向内依次为第一电介质层(A)、第二电介质层(B)、石墨烯层(G)、第二电介质层(B)、第一电介质层(A)、第二电介质层(B)、第一电介质层(A)、第一电介质层(A)和第二电介质层(B);所述图厄‑摩尔斯序列多层电介质透射谱中缺陷模叠加形成通带;所述通带的叠加缺陷模对电场具有局域性;所述石墨烯位于局域电场最强位置,石墨烯的三阶非线性得到增强,进而实现光学双稳态、三稳态和四稳态。

2.根据权利要求1所述一种图厄‑摩尔斯序列多层电介质与石墨烯的复合结构,其特征在于,所述第一电介质层(A)为硅,第二电介质层(B)为二氧化硅。